TiN基涂层金属陶瓷材料的研制-材料学专业论文.docx

华中科技 大学博士 学 华 中 科 技 大 学 博 士 学 位 论 文 II II 摘 要 本文用真空烧结法制备了 Ti(C,N)基金属陶瓷基体材料，并用热等静压氮化处理 和多弧离子镀在金属陶瓷基体上沉积了 TiN、TiAlN 和 Ti-Si-N 涂层，用 X 射线衍射 仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、X 射线能谱(EDS)、电子探针(EPMA)、原子力显微镜 (AFM)、X 射线光电子能谱(XPS)、透射电镜(TEM)等实验手段系统地研究了 Ti(C,N) 基体材料、TiN、TiAlN 和 Ti-Si-N 涂层的成分、制备工艺、组织结构和性能之间的 关系。 首先综述了涂层的发展概况和研究进展，总结了涂层的制备技术、成分对其组 织和性能的影响，归纳了涂层制备过程中相变和组织变化等方面的研究成果，在此 基础上提出本文的研究目的和意义。 研究了纳米 TiC、TiN 添加量对金属陶瓷的显微组织、性能的影响。结果表明， 随着纳米粉添加量的增加，金属陶瓷晶粒逐渐细化，且分布均匀，具有内、外环形 相的“白芯-灰壳”结构的小颗粒大大增加，粘结相体积分数明显减少。断口形貌和 微观组织分析表明，纳米粉的加入降低了原始粉末的平均粒度，减小了晶粒间的平 均自由程。镶嵌于大颗粒环形相和弥散分布于粘结相中的细小硬质相颗粒，对裂纹 的形成和扩展起到阻碍作用，使金属陶瓷因裂纹扩展途径发生偏转而增韧。当原始 粉末中纳米 TiC、TiN 含量占原始粉末中 TiC、TiN 含量的 10%时，金属陶瓷有较发 达的撕裂棱和较少的气孔，具有较好的力学性能。 研究了氮化处理温度对 Ti(C, N)基金属陶瓷表面显微组织和性能的影响。结果表 明，在金属陶瓷表面 20μm 范围内形成了富含 Ti、N 的硬化层。表面区较高 N 的活 度成为合金元素扩散的驱动力。在 1150℃氮化处理时，有 TiN、WC 和 Mo2C 相在表 面区生成。随着氮化处理温度的升高，Mo2C 和 WC 相减少，内环形相和部分外环形 相被富 N 的碳氮化合物所取代，表面区晶粒细化，硬化层逐渐变厚，并在硬化层与 基体之间形成了富 Ni 的过渡层，其有利于提高表面层与基体的结合强度。综合分析 认为，在 1250℃下氮化处理，可以获得较理想的表面硬化层，其表面显微硬度可达 1833.5HV。 研究了 N2 分压和基体脉冲负偏压对 TiAlN 涂层表面形貌、成分、相结构和力学 性能的影响。随着 N2 分压的升高，涂层中 Al 的含量增加，晶格畸变增大，涂层晶 III III 粒细化，并且更加致密，涂层的显微硬度和界面结合强度增大，摩擦系数逐渐减小， 耐磨性增强，其磨损机理由磨粒磨损变为磨粒磨损和粘着磨损。随着脉冲负偏压的 增大，涂层表面溶滴颗粒的大小和数量均减小，晶格常数随 Al 含量的减少而增加， 从-50V 的 0.413nm 到-200V 的 0.422nm。同时脉冲负偏压的增大，增强了离子束对 涂层和基体的轰击效应，提高了涂层抵抗塑性变形的能力，使得涂层的硬度和界面 结合强度得到改善。 研究表明，Ti-Si-N 涂层呈柱状多晶组织，其晶粒大小约为 10nm 左右。Ti-Si-N 涂层由 TiN、Si3N4 和少量的 TiSi2 组成，纳米 TiN 分布于非晶 Si3N4 中，其晶粒中存 在的位错对晶界起到强化作用。高能离子束的轰击作用使基体、过渡层和涂层之间 的界面层不明显。 研究了沉积工艺参数对 Ti-Si-N 涂层的表面形貌、相结构、显微组织、残余应力 的影响。结果表明，随着 Si 靶电流比的增加，涂层表面颗粒的尺寸和数量均减少， 涂层中 Si 含量增加，涂层硬度和结合强度增大。脉冲负偏压提高了荷能离子的能量， 强化了对涂层的轰击作用，随着脉冲负偏压的提高，Ti-Si-N 涂层表面溶滴密度降低， 沉积速率先升后降，晶粒尺寸随脉冲负偏压的增加略有增大。脉冲负偏压的增加， 使涂层的应力状态由拉应力变为压应力，内应力随着脉冲负偏压的增加而增大。随 着 N2 流量的增加，Ti-Si-N 涂层表面钛的溶滴数量减少，沉积速率下降，而平均晶粒 尺寸增大。摩擦系数随着 N2 流量的增大而减小，磨损试验表明，涂层的磨损机理由 剥离磨损变为磨粒磨损和粘着磨损。 计算了 TiN 和(Ti0.5Al0.5)N 的价电子结构，结果表明，Al 原子的引入改变了其价 电子结构，价电子数分布更加均匀，其最强键共价电子对总数 I AnA 值可作为硬度高 低的比较指标。材料发生塑性变形时，其沿密排面滑移需要克服结合力的相对大小 可用 ??Ia na 来表示，??Ia na 越小，材料的塑性越好，Al 元素的引入使涂层的塑性略 有下降。 关键词：Ti(C, N)金属陶瓷基体；表面氮化处理；TiAlN 涂层；Ti-Si-N 涂层；热等