二氧化硅CVD过程中的热现象研究-工程热物理专业论文.docx

Classified Index: TK124 U.D.C: 621.1.016.7 Dissertation for the Doctoral Degree in Engineering STUDY ON THE THERMAL PHENOMENON IN THE CVD PROCESS OF SILICA Candidate： Zhao Qingwei Supervisor： Prof. Ruan Liming Academic Degree Applied for： Master of Engineering Speciality： Engineering Thermophysics Affiliation： School of Energy Science and Engineering Date of Defence： June, 2011 Degree-Conferring-Institution： Harbin Institute of Technology 摘 要 化学气相沉积技术(CVD)是一种常见工艺，是通过气体间的化学反应制 备新材料的过程，以满足某些新的性能。CVD技术也是石英玻璃生产、试 验过程中所采用的重要方法之一。石英玻璃广泛应用于各行业，并且有着较 为成熟的生产经验，但关于石英玻璃生产过程细节的描述及其三维数值模拟 的资料较少。 为了更好地指导石英玻璃的生产工艺，提高石英玻璃的质量、性能，减 少原料的浪费，本文针对石英玻璃的生产过程，以立式CVD沉积炉为研究 对象，对二氧化硅气相沉积过程进行了数值模拟。文中对石英玻璃坨体与沉 积室内的流体区同时建模，建立了流-固耦合模型；考虑了重力加速度对流 场的影响；将参与反应物质的物性处理为温度的非线性函数；采用商业软件 中的用户自定义函数(UDF)将水蒸气的吸收系数编辑为温度和谱带的函数。 数值模拟得出了温度场、压力场、速度场及相关组分的质量分数场等结果。 在认为温度是影响石英玻璃性能的主要因素的前提下，基于数值模拟结果， 针对模型参数、气量参数进行了定量计算，讨论了其对沉积炉及石英玻璃坨 体内部温度场的影响。将数值模拟结果作为边界条件，采用编程与商业软件 两种方法对石英玻璃内部的导热 -辐射耦合换热进行了计算，并进行了对 比。 分析计算结果，有以下结论：沉积室内的温度较高，必须考虑辐射换热 的影响，需要对参与性介质的辐射特性作较准确的预测；沉积面上的温度沿 着半径方向呈现低-高-低的变化趋势，受气量、沉积面与气体入口间距离的 影响较大；从横截面看，石英玻璃坨体内部的温度场呈现环状分布，计算过 程中需要考虑半透明介质辐射换热的影响。 关键词：二氧化硅；沉积；有限体积法；FLUENT 模拟；热现象 Abstract Chemical vapor deposition (CVD) is a common process. The chemical reac- tion between gases forms new materials that can meet some new properties. CVD technology is also a significant method in the production, testing process of quartz glass. Quartz glass is widely used in various industries with a more mature production experience, but the detail descriptions about the production process of quartz glass, especially data about three-dimensional numerical simulation is scarce. In order to guide the production process of quartz glass better, improve the quality and performance of quartz glass, reduce the waste of raw materials, the paper aims at the production process of quartz glass, studies the vertical CVD furnace deposition model, simulates the vapor deposition process of silica numerically. In this paper, the region of