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33 2 仪 器 仪 表 学 报 Vol. 33 No. 2
第 卷 第 期
2012 2 Chinese Journal of Scientific Instrument Feb． 2012
年 月
*
基于灰色模型的 CMP 过程免疫预测R2R 控制
1，2 ，3 1
王 亮 ，胡静涛
(1 中国科学院沈阳自动化所工业信息学重点实验室 沈阳 110016 ;2 中国科学院研究生院 北京 100039 ;
3 沈阳化工大学沈阳 110142)
: (chemical mechanical polishing ，CMP) 、 、 ，
摘 要 针对化学机械研磨 过程非线性 时变 产品质量不能在线测量的特性 为了提高
CMP R2R (Rum-to-Run) ， CMP R2R GI-
过程 控制的精度 提出了一种基于灰色模型和克隆选择免疫算法的 过程 预测控制器
PR2R 。 ， CMP GM (1，N ) ， CMP
通过离线测量获得历史批次少量数据 构建 过程的在线灰色 预测模型 解决了复杂 过程难以建立
。 CMP ，
精确数学模型的难题提高了预测模型的精度 通过基于克隆选择免疫算法的 过程预测控制的滚动优化 避免了基于导
， 。 ，CMP GIPR2R EWMA
数的优化技术易陷入局部最优的问题 进而提高了控制精度 仿真结果表明 过程 控制器的控制精度优于
(exponentially weighted moving average) ， ， ， (material removal
方法 有效抑制了过程漂移 减小了不同批次间产品的差异 材料去除率
rate ，MRR) 2 18． 09% 16． 84 % 。
的均方根误差在总批次与控制目标不同这 种情况下分别降低了
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