浅述如何提高ITO靶材使用率.docVIP

浅述如何提高ITO靶材使用率 　　【摘要】本文介绍了ITO靶材的主要制备方法、液晶显示对ITO靶材要求、磁控溅射沉积技术的应用。并提出了提高靶材利用率的几种方法：靶材厂商改变靶材结构提高使用率、旋转靶材的应用提高使用率、调整磁场强度提高ITO 靶材使用率、靶材位置互换提高靶材使用率。供广大看客参考。 　　【关键词】旋转靶材;平面靶材;磁控溅射 　　引言 　　如何提高靶材利用率是color filter 生产厂家孜孜以求的目标，这不仅可以提高靶材使用率，还提高了机台稼动率，降低设备保养频率。这涉及到靶材材料商与溅镀设备厂商共同努力才能实现。 　　一、ITO靶材的主要制备方法 　　ITO靶材的生产工艺和技术设备已较为成熟和稳定，其主要制备方法有热等静压法、热压法和烧结法。 　　二、液晶显示对ITO靶材要求 　　液晶显示器（LCD）经过长时间的发展，其产品品质不断提升，成本不断下降，对ITO靶材的要求也不断提高，因此，为了配合LCD的发展，未来ITO靶材大致有以下的趋势： 　　（1）降低电阻率。LCD的愈来愈精细化的趋向以及随着它的驱动程序不同，需要更小电阻率的透明导电膜。 　　（2）提高靶材的致密度。靶材密度低时，有效溅射表面积会减少，而且溅射速度也会降低。高密度靶的表面变化少，可以得到低电阻膜。靶材密度与寿命有关，高密度的靶材寿命较长，这意味着可降低靶材成本。