用作指纹谱来区分类似的体系。ESCAstudiesofpolyimide(聚酰亚胺).pptVIP

10.3、合金材料中杂质扩散研究 金属材料的许多性质，如腐蚀、氧化、应力、疲劳、磨损、脆性、粘着、形变、摩擦等，不但与金属的表面形貌有关，也同表面组成，以及吸附、分凝、扩散等表面现象有关，跟金属晶界和界面情况有关。 AES和XPS是这方面的一个有力的分析工具。 大多数研究关注于金属基体内元素的扩散。 AES用于研究结构钢晶界偏析和脆断问题。 AES和XPS用于产品工艺质量控制。 表面层的物质迁移 表面层物质迁移包括：①表面杂质的热脱附、反应生成物的蒸发；②表面杂质的表面扩散；③体内向表面的扩散和析出。 【例】高温不锈钢表面杂质硫的析出在550℃附近变得显著 【例】硅–金系统的低温迁移 合金的表面组分 【如】不锈钢表面上Cr的富集。 晶界偏析 材料的许多机械性质和腐蚀现象都与晶界化学有关，晶界断裂就是最明显的例子。结构钢的脆裂是在奥氏体晶界形成前，基体材料中微量杂质元素（P、S、Si 、Sn等）聚集造成的。晶界偏析物分布大小约为100mm。AES很成功地用于研究许多钢和铁基合金脆断时晶界偏析的杂质。 10.4、微电子器件失效分析 电子能谱可对半导体材料和工艺过程进行有效的质量控制和分析，注入和扩散分析，因为表面和界面的性质对器件性能有很大影响。 AES和XPS 可用于分析研究半导体器件，欧姆接触和肖特基势垒二级管中金属/半导体结的组分、结构和界面化学等，进行质量控制，工艺分析和器件失效分析。 在半导体微电子器件中需要有金属引出电极，理想的电极材料为金，但是金与半导体硅之间存在严重的互扩散，为此必须制作有过渡夹层的多层膜材料来实现。如Au/Cr/Si多层膜系统。由于电子器件在使用过程中不可避免地会发热，所以这样制作出的器件必须要经过可靠性老化试验。 【例】金属化系统Au/Cr/Si界面反应的研究 10.5、固体表面和界面电子结构的研究 (1)、表面和界面电子结构的研究 表面和界面是杂质富集区，在表面和界面处的电子态的特性是现代表面科学研究的重要课题。实际表面由于表面态的存在，能带在近表面发生弯曲，表面能带弯曲对逸出功或电子亲和势影响较大。用XPS可测量表面能带弯曲。 测量方法是对比清洁表面和杂质覆盖表面XPS芯能级电子能谱图，随着覆盖度?的变化，光电子特征峰发生移动，移动的能量值=表面能带弯曲量。 表面势垒高度 电子亲和势 I = W - FB (2)、能带结构的测量 用角分辨光电子能谱(ARPES)可以同时测量光电子的动能E和波矢k，故可以测定样品的能带结构E(ki)。 (3)、UPS谱与相关物理参数的测定 [例] 6H-SiC 单晶的UPS谱 （Vb = -23.2 V） 10.6、在材料化学中的应用 元素和分子分析、化学键、配位化合物中的配位键、分子结构分析、氧化还原、光化学反应等； top bridge hollow 0 °C -103 °C -193 °C H. Tillborg et al. Surf. Sci.273 (1992),47 -183 °C Troom -138 °C -248 °C O2 10.7、在腐蚀科学中的应用 吸附、分凝、气体—表面反应、氧化、钝化。电子能谱是研究各种镀层、涂层和表面处理层(钝化层、保护层等)的最有效手段，广泛应用于金属、高分子、石油工业、船舶等材料的表面处理, 金属或聚合物的淀积、防腐蚀、抗磨、断裂等方面的分析和研究。 【例】不锈钢材料分析 (i) 元素分析：不锈钢一般由Fe，Cr，Ni，Mo，Si等合金元素组成。 定性分析：全谱扫描（1—1000eV），可确定表面主要元素组成。 定量分析：对各元素特征峰作窄区扫描，通过定量计算，可给出表面各元素的相对含量。 (ii) 不锈钢氧化膜中元素价态分析 通过元素的特征峰的化学位移的大小，在一定条件下可推知其化学价态。 例如，Cr18Ni14.3Mo25不锈钢在500?C空气中氧化0.5、5分钟后的XPS谱图为(Cr2p3/2,O1s) (iii) 不锈钢耐腐蚀机理的研究 不锈钢经钝化处理后，表面膜主要以Cr的氧化物(Cr2O3)为主。XPS表明这层Cr2O3膜并非抗腐蚀的决定性条件，Mo的加入，一方面使钝化膜中Cr保持一定富集水平，另一方面抑制了过渡层的贫Cr。看来抑制过渡层的贫Cr可使被侵蚀的表面膜及时得到补充修复是耐腐蚀的充分条件。 金属表面与环境的相互作用可能形成一层钝化覆盖层，XPS能将金属和金属氧化物区分开来，鉴定钝化膜。揭示多种价态化合物。 过渡金属化合物常出现损失峰结构特征，分析较为困难。 铁的分析中需要能区分Fe(II)和Fe(III)。 Fe 2p3/2峰的曲线拟合。 (a)Fe(III)和(b)Fe(II)的震激峰(S)提供了化学态指认的有价值帮助。 10.8、薄膜材料分析与研究 如LB膜、光学