等离子体CHx刻蚀碳氢薄膜的分子动力学模拟-材料科学与工程专业论文.docxVIP

贵州大学硕士研究生学位论文 贵州大学硕士研究生学位论文 ii ii HYPERLINK \l _bookmark0 产物分布 27 HYPERLINK \l _bookmark1 C 与 H 原子的刻蚀方式 28 HYPERLINK \l _bookmark2 4.3 薄膜温度的影响 29 HYPERLINK \l _bookmark2 4.3.1 模拟参数 29 HYPERLINK \l _bookmark3 4.3.2. 模拟结果与分析 30 HYPERLINK \l _bookmark3 H 原子的吸附和 H 与 C 原子的刻蚀 30 HYPERLINK \l _bookmark4 原子密度分布 31 HYPERLINK \l _bookmark5 产物分布 33 HYPERLINK \l _bookmark6 C 与 H 原子的刻蚀方式 34 HYPERLINK \l _bookmark7 4.4 H 与碳氢薄膜作用机制的讨论 35 HYPERLINK \l _bookmark8 本章小结 36 HYPERLINK \l _bookmark9 第五章 CH 与碳氢薄膜的相互作用 37 HYPERLINK \l _bookmark9 引言37 HYPERLINK \l _bookmark9 5.1 入射能量的影响 37 HYPERLINK \l _bookmark9 5.1.1 模拟参数 37 HYPERLINK \l _bookmark9 5.1.2 模拟结果与分析 37 HYPERLINK \l _bookmark9 C 与 H 的吸附及 CH 的分解率 37 HYPERLINK \l _bookmark10 薄膜的性质 38 HYPERLINK \l _bookmark11 5.2 入射角度的影响 44 HYPERLINK \l _bookmark11 5.2.1 模拟条件 44 HYPERLINK \l _bookmark11 5.2.2 模拟结果与分析 44 HYPERLINK \l _bookmark11 C 和 H 原子的吸附 44 HYPERLINK \l _bookmark12 CH 的分解率 45 HYPERLINK \l _bookmark12 薄膜性质 45 HYPERLINK \l _bookmark13 5.3 薄膜温度的影响 50 HYPERLINK \l _bookmark13 5.3.1 模拟条件 50 HYPERLINK \l _bookmark14 5.3.2 模拟结果与分析 51 HYPERLINK \l _bookmark14 C 与 H 的吸附 51 HYPERLINK \l _bookmark14 CH 的分解率 51 HYPERLINK \l _bookmark15 薄膜性质 52 HYPERLINK \l _bookmark16 5.4 CH 重沉积行为的讨论 56 HYPERLINK \l _bookmark17 本章小结 57 HYPERLINK \l _bookmark18 第六章 Ar+和 H 与碳氢薄膜的相互作用 58 HYPERLINK \l _bookmark18 引言58 iii iii HYPERLINK \l _bookmark18 6.1 比率的影响 58 HYPERLINK \l _bookmark18 6.1.1 模拟条件 58 HYPERLINK \l _bookmark18 6.1.2 模拟结果与分析 58 HYPERLINK \l _bookmark18 刻蚀率的比较 58 HYPERLINK \l _bookmark19 产物分布 59 HYPERLINK \l _bookmark20 H 原子和 C 原子的刻蚀方式 61 HYPERLINK \l _bookmark21 薄膜性质的变化 62 HYPERLINK \l _bookmark22 悬空键分布 63 HYPERLINK \l _bookmark23 6.2 Ar+能量的影响 65 HYPERLINK \l _bookmark23 6.2.1 模拟条件 65 HYPERLINK \l _bookmark23 6.2.2 模拟结果及分析 65 HYPERLINK \l _bookmark23 C 原子和 H 原子的刻蚀 65 HYPERLINK \l _bookmark24 产物分布 66 HYPERLINK \l _bookmark25 H 原子和 C 原子的