低能离子束诱导晶体表面纳米自组织结构及光学性能-微电子学与固体电子专业论文.docx

万方数据 万方数据 西安电子科技大学 学位论文独创性（或创新性）声明 秉承学校严谨的学风和优良的科学道德，本人声明所呈交的论文是我个人在 导师指导下进行的研究工作及取得的研究成果。尽我所知，除了文中特别加以标 注和致谢中所罗列的内容以外，论文中不包含其他人已经发表或撰写过的研究成 果；也不包含为获得西安电子科技大学或其它教育机构的学位或证书而使用过的 材料。与我一同工作的同志对本研究所做的任何贡献均已在论文中做了明确的说 明并表示了谢意。 申请学位论文与资料若有不实之处，本人承担一切的法律责任。 本人签名： 日 期： 西安电子科技大学 关于论文使用授权的说明 本人完全了解西安电子科技大学有关保留和使用学位论文的规定，即：研究 生在校攻读学位期间论文工作的知识产权单位属西安电子科技大学。学校有权保 留送交论文的复印件，允许查阅和借阅论文；学校可以公布论文的全部或部分内 容，可以允许采用影印、缩印或其它复制手段保存论文。同时本人保证，毕业后 结合学位论文研究课题再撰写的文章一律署名单位为西安电子科技大学。 （保密的论文在解密后遵守此规定） 本学位论文属于保密，在 年解密后适用本授权书。 本人签名： 导师签名： 日 期： 日 期： 2 摘 要 低能离子束溅射/刻蚀固体表面形成自组织纳米微结构，是一种高效、简便、 低成本制造大面积有序纳米结构的方法。该方法具有加工精度高、改变离子束参 数可实现纳米微结构的尺寸控制、易于实现自动化等特点。因此，低能离子束刻 蚀晶体表面形成自组织纳米结构近年来一直是学术界研究的热点。本文针对单晶 硅和蓝宝石材料，研究了不同离子束参数刻蚀形成规则自组织纳米微结构的关键 技术，所取得主要研究成果是： 1.对离子束刻蚀形成纳米微结构的理论模型进行了分析和仿真。分析了基于 sigmund 溅射理论的 BH 模型和 MCB 模型，通过引入离子束诱导项和非线性项，MCB 模型对 BH 模型不能解释的低温下纳米结构形成及长时间刻蚀饱和的不足进行了改 进。本文针对 MCB 模型进行了详细的分析和仿真，建立了刻蚀项、分散项和扩散 项与离子束参数的关系，阐释了纳米自组织结构的形成原因及演变过程。 2．建立了样品旋转时自组织纳米点状结构形成的数学模型，确定了不定形层 热扩散是单晶硅主要扩散机制，获得了单晶硅的纳米微结构。研究发现：当离子 束能量 1000eV、束流密度 265 ?A??cm?2 、样品不旋转时，离子束小角度（5??40?） 刻蚀单晶硅表面可获得条纹状纳米结构；增大入射角度（40??50?），样品表面趋于 光滑；继续增大入射角度到 65?以后样品表面出现柱状纳米结构。而当样品旋转时， 在相同离子束参数作用下，在较小离子入射角度（5??40?）和较大入射角度（65?85?） 都可获得纳米点状结构，尺度约为 50?85 纳米，实验结果验证了模型的正确性。 3．获得了蓝宝石纳米结构，针对蓝宝石晶体结构，提出了 3+1 维数学模型， 揭示了离子束刻蚀下蓝宝石表面形貌的演变规律；确定了离子束诱导扩散是蓝宝 石表面主要的扩散机理。利用 Ar+离子束刻蚀蓝宝石，在离子束能量 1200eV、束 流密度 265 ?A??cm?2 、样品不旋转下，在 5??20?和 35??45?时，形成了纵向尺度较 小的点状纳米结构，有序性较差；在 30?附近，样品表面趋于光滑，增大入射角度 到 45?，样品表面出现有序的条纹结构，条纹方向与离子束方向垂直，继续增大离 子束入射角度，在离子束入射方向出现柱状结构，垂直于离子束方向仍保持规则 的有序条纹状结构，且样品表面粗糙度迅速增大。不同于单晶硅，离子束能量在 蓝宝石中分布各向异性，蓝宝石表面弛豫主要是离子束诱导机制，利用建立的数 学模型对刻蚀结果进行了仿真与分析。 4．建立了 Ar+离子束能量与刻蚀后蓝宝石表面形貌的关系，揭示了不同表面 形貌形成的机理。研究发现相同角度，不同能量刻蚀后蓝宝石样品表面也会出现 多种纳米结构。在入射角度 65?、能量较小(600?750eV)时，样品表面出现点状结 构，增加能量到 900eV，样品表面出现规则的条纹状结构，继续增大能量，样品在 离子束入射方向出现柱状结构，垂直方向为有序条纹状结构。渗透深度及能量各 i 向异性分布是纳米结构形貌演变的主要因素。 5.提出了使用离子束刻蚀形成的有序纳米结构提高样品透过率的方法。在 1100nm?2000nm 波长范围内，利用 Ar+刻蚀单晶硅，当离子束能量 1000eV、束流密 度 265 ?A??cm?2 ，在入射角度 15?、样品不旋转时，表面形成的规则条纹结构可使透 过率提高约 8%；而在入射角度 65?、样品旋转时，形成的规则点状结构，可使透射 率提高约 1