微波等离子体炬发射光谱法去溶系统性能的研究.pdf

V o l. 23 高 等 学 校 化 学 学 报 　　N o. 7　 2 0 0 2 年 7 月 　　 　　　　　CH EM ICAL JOU RN AL O F CH IN E SE U N IV ER S IT IE S　　　　　　　　　 1273～ 1276　 微波等离子体炬发射光谱法去溶系统性能的研究 周建光, 彭增辉, 郇延富, 于爱民, 金钦汉 ( 吉林大学化学学院分析科学研究所, 长春 130023) 周　翔, 刘　梅 (济源钢铁厂质管处, 焦作 454650) 摘要　用微波等离子体炬( ) 作激发光源, 等离子体的工作气体为氩气, 研究了气动雾化进样去溶系统 M P T 的工作参数对分析性能的影响, 探讨了水冷凝与浓硫酸吸收二者协同去溶的相关性. 结果表明, 通过测量 O H 带(Q 1 带, 带头谱线为 308520 nm ) 的发射强度即可判别样品去溶效果. 关键词　微波等离子体炬; 原子发射光谱; 去溶系统 中图分类号　 657　　　　文献标识码　 　　　　文章编号　025 10790 (2002) O A ( ) [ 1 ] 微波等离子体炬 M P T 是继 ICP 后出现的一种新型的激发光源 , 具有与 ICP 类似的炬焰结构, 用其作激发光源时, 样品可从中央通道引入等离子体. 通过对M P T 放电光学结构和基本性质的研究, 证明 是一种较理想的激发光源. 在用 作为激发光源的发射光谱法中, 溶液样品的引入是一 M P T M P T 个重要环节. M P T 对样品的承受能力比传统的M IP 强得多, 因而可将 GC 等作为一种进样技术与之 联用. 但在 的常规研究中, 使用最广泛的进样方式还是溶液雾化加去溶的常规溶液进样方 M P T A E S 式. 由于气动雾化( ) 比热雾化等其它雾化方式有精密度好、易操作等优点, 所以在 装置 PN M P T A E S 中应用普遍. 文献[2, 3 ]报道了采用气动雾化、常规水冷凝与浓硫酸吸收相结合的方法去溶引入样品 时低功率 的分析性能, 并将微波功率对 激发能力的影响与传统 光源进行了 A r M P T A E S M P T M IP 对比, 但未给出这种用于气动雾化的去溶系统的最佳实验条件. 本文研究了水冷凝与浓硫酸吸收相结 合的去溶系统中各部分参数对M P T 分析性能的影响, 给出了各部分参数对元素发射强度的影响曲线. 实验结果表明, 采用气动雾化时, 用于 的去溶系统存在一个最佳