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微/纳制造工艺技术 Microfabrication technology 第八讲：干法刻蚀 乔大勇 课程内容 一 干法刻蚀 一 光刻 等离子基础 反应离子刻蚀 深度反应离子刻蚀 干法刻蚀 为什么要进行干法刻蚀 腐蚀参数 湿法腐蚀 干法刻蚀 腐蚀偏差 3微米 非常小 腐蚀图形 同性或异性 可控 刻蚀速率 高，可控