高分子磁体的表面改性与聚二茂铁甲酰芳胺基硫脲及其配合物的合成与性能分析-材料科学专业论文.docxVIP

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高分子磁体的表面改性与聚二茂铁甲酰芳胺基硫脲及其配合物的合成与性能分析-材料科学专业论文

内川IJip范大学硕十学位 ìt:支 高分子磁体的表面改性与聚二茂铁甲酷芳肢基硫 服及其配合物的合成与性能研究 材料学专业 研究生: 安全长 指导教师:林展如教授 摘要:本文在开头部分简单讲述了以下内容:(1)材料的重要性以及近些年来材 料业,各个领域的发展 ;(2)磁性材料的发展史以及磁性材料的分类 i(3)有机磁性材 料的出现、有机磁性材料的分类和近些年来有机金属磁性材料尤其是 二茂铁高 分子磁体领域所取得的重要进展 (4)高分子介电材料的发展与现状,对表征材料 介电性能的四个重要参数即介电常数、介电损耗、电导率和击穿强度做了比较 详尽的论述。 在高分子磁体的表面改性部分,介绍了用丙烯酸和聚碳酸踊对高分子磁体 进行表面改性的实验方法口用 红外光谱和 X 光电子能谱等方法对改性 前后的 样品进行了分析,重点讨论了改性前后高分子磁体在高频微波下的 电磁性能的 改变。对改性前后高分子磁体的电磁性能研究结果表明:用丙烯酸或聚碳酸脂 对高分子磁体进行表面改性,两种试剂均不影响高分子的磁号率, 并且它们均 有效地降低 f 高分子磁体的磁损耗和介电损耗,更有研究意义的是:内烯酸使 高分子磁体在高频微波下的介电常数得到明显提高;从总的方面来说,丙烯酸 改性高分子磁体优于用聚碳酸酶改性的高分子磁体。同时,对改位前后高分子 磁体的红外光谱和 X 光电子自拙的研究均表明:用丙烯酸改性高分子磁体是 一种化学处理方式,丙烯酸中毅基上的氧原子与高分子磁体中的铁相结合,形 成了界面化学键,从而有效地改进了高分了-磁体的电磁性能=而聚碳酸黯改性 1 问川师范大学{硕 f .学位论文 仅是一种物理意义上的包覆。 在聚合物的合成部分,本文以二二二茂铁为原料,经过乙默化、氧化和氯化, 将所得的二甲眈氯二茂铁与硫氨酸锦 (KSCN) 反应得到二茂铁二异硫氨酸酶, 再用产物分别与秦二胶、邻末二胶、间来二胶、对来二胶、乙二月安和联苯胶反 应制备了聚合物(1)、 C.II)、 (III)、(IV)、(V) 和 (VI)。 在本文的第四部分。简要讨论 f 聚合物。) (VI) 的一般性质,对聚合 物的核磁共振谱、红外光谱、 TG-DT 罔以及分于量分布进行了系统研究白 本文对聚合物 (1)、(皿〉和(VI) 的核磁共振谱和红外光 部进行了分析, 研究结果表明:聚合物中的毅基上的氧原子能与芳胶上的氢原子形成分子内氢 键,使聚合物的分子内出现了一个平而六元环结构,并由于分子内氢键的存在 而缩短了二茂铁基间的距离,增强了结构单元间二茂铁基间的相互作用。 对聚合物(I)和聚合物(皿〉的 TG-DT研究表明:聚合物(I)的开始 分解ìffil度为 2200C ,失去的第一个基团为C=Q; 聚合物 (I1I) 的开始分解温 度为 1940C ,先失基团为-NH,两者的热解机理不尽相同。 对聚合物 (11) 和聚合物 (VI) 的GPC 研究表明:二者的分子量很高,且 具有一定的多分散性 n 说明聚舍反应中发生了链的支化反应,这是由于高转化 率,时,大分子发生链转移所引起的。(摘要中所出现的聚合物。) - (VI)的具体 名称见义中表 6) 关键词:二茂铁型高分子磁体表面改性聚二茂铁甲毗芳肢基7ik J尿 TG-DT 图 2 rq川。l iJ范人学硕 -t-t1 2 位 论文 Surface Modified Polymeric Magnets and the Studies on the Synthesis and Properties of Polyferro Major : Material Science. Graduate:An Qt即吐即19 Instructor: Prof Lin zhanru ABSTRACTS:ηle 命现 part of this 白白is inc1udes 也e following inforrnatton : (I)ηle sig州cance of materia1s and 也e progress m ev,的丑e尬。f materia1 scìertee in rec.ent yωrs; (2) 币le historyofm唱letic material and the classification ofmagnetic material; (3) The emer阴lcyand the classi.ficati∞of α阴1ic m哪怕c materials as well 岱怆 signifi叩t progress in the ficld of 缸T∞ene polymeric m想回邸ently (4) 恤伯lcmg 由e development and the s出LL 年10 of diel町的c

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