基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理-国家光栅制造与应用.PDFVIP

第 1 期 微细加工技术 №1 2007 年 2 月 MICROFABRICA TION TECHNOLO GY Feb ,2007 ( ) 文章编号 2007 基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理 1 ,2 1 1 李文昊 , 巴音贺希格 , 齐向东 ( 1 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 ,长春 130033 ; 2 中国科学院研究生院 ,北京 100039) 摘要 :根据表面热动力学原理提出了一种成本低廉 、制作周期短 、易于实现的光刻胶热熔法 ,阐述了 光刻胶热熔法的基本原理 ,探讨了光刻胶热熔对光刻胶光栅表面刻槽形状的影响 。实验中 ,分别 对经过和未经过热熔处理的光刻胶光栅做了离子束刻蚀 。结果表明 ,利用表面张力作用可使熔融 状态下的光刻胶光栅刻槽表面变得平滑 ,粗糙度降低 ,并且成功地在 K9 玻璃基底上得到了槽形较 好的全息光栅 。 关 　键 　词 :全息光栅 ;光刻胶热熔法 ;离子束刻蚀 ;原子力显微镜 中图分类号 : TN3057 　　　文献标识码 :A 呢 ? 本研究进行了尝试 , 目的就是对全息光栅的表 1 　引言 面粗糙度进行平滑处理 。本文详细叙述了实验过 程 ,并且通过原子力显微镜测量了所得结果 ,验证了 在全息光栅曝光过程中, 由于光强分布的不均 这种方法的可行性 。 匀性 、光学元件的缺陷以及光路中的杂散光等因素 的影响 ,造成光刻胶光栅刻槽表面粗糙不平 ,并且出 2 　实验原理 现“搭桥”现象 ,如果用这种表面的光刻胶光栅作为 掩模版进行离子束刻蚀 ,就会将这些缺陷直接复制 由于光刻胶熔化过程中表面张力的作用 ,光刻 到表面浮雕光栅上 ,严重影响光栅的性能[1 ] 。虽然 胶的表面积将减至最小值 , 以使其表面能量达到最 可以采用反应离子刻蚀法对光刻胶光栅表面刻槽进 小 。考虑到表面的热动力学效应 ,一个液滴会在与 行平滑处理 ,但是这种方法的成本较高 ,制作周期较 其接触的固体表面呈现出某一确定的接触角 ,这滴 长[2 - 3 ] 。 液体会保持稳定的平衡状态 ,此时液体表面能量最 光刻胶热熔法具有制作周期短 、成本低 、效率高 低并处于亚稳定平衡状态 。这些对于熔化状态的光 等优点 ,因而成为近些年研究的热点[4 - 7 ] 。光刻胶 刻胶与玻璃基底的界面是完全成立的 ,此时光刻胶 热熔法对于制作微透镜来说是一种有效的方法 ,如 刻槽截面通常为圆弧形 。 果选择适当的加热参数 ,在表面张力的作用下便形 [8 ] 在平衡状态下 ,一个液滴与光滑 、均匀 、平坦 、无 成了球冠结构的微透镜阵列 。Z D Popovic 描述