对称三材料双栅应变硅MOSFET亚阈值电流与亚阈值斜率-电子学报.PDF

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对称三材料双栅应变硅MOSFET亚阈值电流与亚阈值斜率-电子学报

第11期 电  子  学  报 Vol.46 No.11 2018年11月 ACTAELECTRONICASINICA Nov. 2018 对称三材料双栅应变硅 MOSFET 亚阈值电流与亚阈值斜率解析模型 1 2 3 辛艳辉 ,袁合才 ,辛 洋 (1.华北水利水电大学信息工程学院,河南郑州,450046;2.华北水利水电大学数学与统计学院,河南郑州,450046; 3.水利勘查设计研究院,山东德州,253014)   摘 要: 基于泊松方程和边界条件,推导了对称三材料双栅应变硅金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET: metaloxidesemiconductorfieldeffecttransistor)的表面势解析解.利用扩散漂移理论,在亚阈值区电流密度方程的基础 上,提出了亚阈值电流与亚阈值斜率二维解析模型.分析了沟道长度、功函数差、弛豫 SiGe层的Ge组份、栅介质层的 介电常数、应变硅沟道层厚度、栅介质高k层厚度和沟道掺杂浓度等参数对亚阈值性能的影响,并对亚阈值性能改进 进行了分析研究.研究结果为优化器件参数提供了有意义的指导.模型解析结果与DESSIS仿真结果吻合较好. 关键词: 亚阈值电流;亚阈值斜率;三材料双栅;应变硅 中图分类号: TN386   文献标识码: A   文章编号: 03722112(2018)11276805 电子学报URL:http://www.ejournal.org.cn  DOI:10.3969/j.issn.03722112.2018.11.026 AnalyticalModelsofSubthresholdCurrentandSubthresholdSlopefor SymmetricalTripleMaterialDoubleGatesSiMOSFETs 1 2 3 XINYanhui,YUANHecai,XINYang (1.DepartmentofInformationandEngineering,NorthChinaUniversityofWaterResourcesandElectricPower,Zhengzhou,Henan450046,China; 2.DepartmentofMathematicsandInformationScience,NorthChinaUniversityofWaterResourcesandElectricPower,Zhengzhou,Henan450046,China; 3.WaterConservancySurveyandDesignInstitute,Dezhou,Shandong253014,China) Abstract: ThesurfacepotentialanalyticalsolutionisderivedbyPoissonequationandtheboundaryconditionfor symmetricaltriplematerial(TM)doublegate(DG)strainedSi(sSi)MOSFETs.Twodimensionalanalyticalmodelsof subthresholdcurrentandsubthresholdslopeareproposedfromsubthresholdcurrentdensityequationbasedonthediffusion drifttheory.Effectsofd

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