功能要求对物质成分进行分析判定技术要求1光谱仪主机.PDF

一、功能要求：对物质成分进行分析、判定。 二、技术要求 1 光谱仪主机 1.1 要求仪器具有高度整体性，激光器，光谱仪，显微镜，CCD 探测器等均集成在同 一主机内，以保证仪器短期及长期稳定性。 1.2 # 要求仪器采用长焦长光谱仪，焦长≥250mm （提供技术证明文件，重点验收指 标）。 1.3 #光谱采集模式（≥4 种）：单窗口数据采集，多窗口连续数据采集（无缝接谱）， 多窗口断续数据采集，连续扫描 （提供技术证明文件，重点验收指标）。 1.4 #整机自动化操作，包括自动切换激发波长，自动切换光栅，自动调节针孔，自 动调节狭缝，自动批处理操作，自动校准，自动强度校正 （提供技术证明文件， 重点验收指标） 1.5 #软件控制，自动切换四个激发波长（包括激光光路，共焦光路，拉曼光路等）， 无需手动切换或更换任何光学元件 （提供技术证明文件，重点验收指标）。 2 光谱仪 2.1 #光谱分辨率： ≤0.65cm-1 （585nm FWHM ）。 测试条件 （重点验收指标）：585nm氖灯线半高宽，≤1800刻线光栅，≥30um针 孔（狭缝）宽度。 ≤0.35cm-1 （837nm FWHM ）。 测试条件 （重点验收指标）：585nm氖灯线半高宽，≤1800刻线光栅，≥30um针 孔（狭缝）宽度。 2.2 灵敏度：硅三阶峰的信噪比≥20:1，并能观察到四阶峰。 测试条件 （重点验收指标）：测量Si （111 ）三阶峰，采用532nm激发，总积分时 间≤300s 。 2.3 光谱稳定性：≤±0.02cm-1 。 测试条件 （重点验收指标）：测量Si 520cm-1拉曼峰，采用532nm激发，10次连续 测量，峰位变化≤±0.02cm-1 。 2.4 光谱重复性：≤±0.02cm-1 。 测试条件 （重点验收指标）：测量Si 520cm-1拉曼峰，采用532nm激发，10次连续 测量，光谱范围100-4000cm-1，峰位变化≤±0.02cm-1 。 2.5 光栅：采用等离子刻蚀全息技术，尺寸：≥76mm×76mm 。 2.6 光谱仪平场校正，焦平面≥30mm，配置≥1024 像素CCD 芯片，无边缘畸变。 2.7 非球面大尺寸反射镜，消象散色差，软件控制自动切换激发波长。 2.8 TE 制冷-60 摄氏度CCD 探测器，1024×256 像素。 3 开放式显微镜 3.1 显微镜底座可拆卸可调节，提供足够的空间适合搭建原位装置。 3.2 聚焦样品移动物镜，不调样品台，保证稳定性。 3.3 配置摄像机：采用彩色CMOS 芯片，≥5 百万像素，同时观测样品和激光，软件 控制自动切换显微像和拉曼测量。 3.4 平场消色差物镜 （支持明暗场）：5X，10X，50X 长焦，100X。 3.5 #全光谱反射式物镜，光谱范围：200-5000nm，NA=0.65 （提供技术证明文件，重 点验收指标）。 3.6 反射和透射科勒照明。 3.7 反射和透射暗场照明。 4 共焦耦合光路 4.1 #双共焦耦合光路，软件控制，自动切换 （提供技术证明文件，重点验收指标）。 4.1.1 消色差透镜共焦：光谱范围400-700nm 。 4.1.2 消色差反射镜组共焦：光谱范围200-2200nm 。 5 激光器 5.1 325nmHeCd 气体激光器，功率≥25mW。 5.2 325nm 干涉滤光片和两个Edge 滤光片，低波数到150cm-1 。 5.3 # PL 光谱范围：330-700nm 。 5.4 532nm 单纵模固体激光器，功率≥100mW。 5.5 532nm 干涉滤光片和两个Edge 滤光片，低波数到50cm-1 。 5.6 633nmHeNe 气体激光器，功率≥17mW。 5.7 633nm 干涉滤光片和两个Edge 滤光片