考虑质量和能耗的陶瓷抛光工艺参数仿真与优化-机械工程专业论文.docxVIP

优秀毕业论文 精品参考文献资料 分类号： 分类号： 学校代号： 11845 UDC： 密级： 学 号： 2111201086 广东工业大学硕士学位论文 (工学硕士) 考虑质量和能耗的陶瓷抛光工艺参数仿真 与优化 朱成就 指导教师姓名、职称： 杨连苤教援 专业或领域名称： 扭拭工程 学生所属学院： 扭电工程堂院 论文答辩日期： 2Q!量生墨目 万方数据 A A Dissertation Submitted to Guangdong University of Technology for the Degree of Master of Engineering Science (Master of Engineering Science) Simulation and Optimization of Parameters Considering Quality and Energy Consumption with Tile Polishing Process Master Candidate：Zhu Chengj iu Supervisor：Prof．Yang Haidong May 2015 Faculty of Electromechanical Engineering Guangdong University of Technology Guangzhou，Guangdong，P．R．China，51 0006 万方数据 摘要摘要 摘要 摘要 在整个瓷砖抛光生产线中陶瓷抛光机是最重要的加工设备，瓷砖经过抛光加工后 表面具有平整光亮的特点。瓷砖抛光的质量主要取决于抛光机工艺参数的制定，然而 生产过程中普遍存在由于工艺参数设置不当造成漏抛、返抛的现象。同时陶瓷抛光机 是高能耗设备，占据了30％～40％的抛光生产线电力成本，而传统陶瓷抛光机工艺参 数的制定大多建立在改善瓷砖表面加工质量和提高抛光的生产效率等问题上，缺乏能 源消耗过程的考虑，导致能源损耗大、利用率低。节能降耗一直是陶瓷生产企业关注 的焦点，工艺参数是控制生产质量和能耗的关键，基于参数的优化寻求满足抛光质量 最好与能耗最小的节能方式不仅可为陶瓷企业节省成本提高收益，更为我国节能减排 事业提供切实的技术基础。 本文以新型摆动式陶瓷抛光机为原型，针对瓷砖抛光过程中质量与能耗的相互关 系展开研究，建立了以瓷砖进给速度、磨头角速度、磨头压强以及横粱摆动频率为控 制变量的抛光质量模型与加工能耗模型，然后基于上述模型分别构建质量最优的单目 标与既考虑质量又考虑能耗的多目标工艺参数优化模型，并使用遗传算法对其进行优 化，以分析两目标之间存在的差异与联系。。本文主要研究内容如下： 1．介绍了陶瓷抛光机的主要组成部件以及其工作原理，包括瓷砖输送部件、横梁摆 动部件、磨头组件。接着分析了磨块的材料特性，介绍不同粒度号与组织号的磨块在 抛光过程的作用和特点。 2．从抛光机的加工机理出发，构建了磨块上任一点的运动学方程；基于压痕断裂力 学理论研究了不同粒度号与磨粒垂直方向磨削深度之间的关系，以适应磨粒在一定压 强下压入砖面的实际情况。结合运动学方程和磨削深度理论建立了以瓷砖表面高度方 差为评价指标的质量模型；利用YlATL／iB软件对模型进行仿真分析，探讨了不同运动参 数对磨削质量的影响规律。 3．根据压痕断裂力学理论，分析了磨粒在不同压强下对瓷砖产生横向裂纹的特征尺 寸，计算出磨粒加工过程中砖面去除的体积：根据脆性材料去除机理研究产生单位去 除体积所需的能耗，结合前面建立运动方程与单位体积能耗建立以瓷砖表面能耗总和 为评价指标的能耗模型。同样地，通过MATLAB软件进行仿真实验，分析抛光工艺参 数对抛光能耗的影响规律。 万方数据 广东工业大学硕士学位论文4 广东工业大学硕士学位论文 4．为实现抛光质量和能耗达到可控的目标，在满足高效磨削条件的同时，以磨削参 数为变量分别构建以抛磨质量最好的单目标和以质量、能耗最优的多目标优化模型， 应用遗传算法进行优化并对得到的解集对比分析，为实际生产加工提供指导意义。 关键宇：陶瓷抛光机；质量模型；能耗模型；仿真；优化 II 万方数据 AbstractAbstract Abstract Abstract The stoneware tile polishing machine is the most important processing equipment in the entire tile polishing production line，the surface of stoneware tile after polishing has the characteristic of smooth and light．The pol