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第 22 卷 第 4 期 催 化 学 报 2001 年 7 月
Vol. 22 No. 4 J uly 2001
Chinese Journal of Catalysis
文章编号 : (2001)
以硅溶胶和三氯化钛为原料合成 TiMCM41 分子筛
Ⅱ. TiMCM41 分子筛的表征
1 1 2 1 1 2
于健强 , 李 灿 , 许 磊 , 李美俊 , 辛 勤 , 刘中民
( 1 中国科学院大连化学物理研究所催化基础国家重点实验室, 大连 116023 ;
2 中国科学院大连化学物理研究所, 大连 116023)
摘要 : 利用 N2 吸附 , TGDTA ,FTIR ,UVVis 和 UVRaman 光谱等技术对以硅溶胶和 TiCl3 水溶液为原料合成的
中孔 TiMCM41 分子筛的孔结构和钛的配位状态进行了详细的表征. N2 吸附等温线表明 , TiMCM41 分子筛的
孔径比纯硅 MCM41 分子筛小 ,钛的加入使分子筛的单胞体积大大增加 , 比表面积和孔壁厚度也显著增大. TG
DTA 结果表明 , TiMCM41 分子筛中存在着两种不同的模板剂键合位. FTIR , UVVis 及 UVRaman 光谱表明 ,
Ti 原子存在于分子筛骨架中且以四面体方式配位 ,没有结晶状态的 TiO2 形成.
关键词 : 中孔分子筛 , TiMCM41 , 孔结构 , 骨架结构
中图分类号: O643 文献标识码 : A
前文中我们采用硅溶胶和 TiCl3 水溶液合成了 和微孔结构的有孔材料的常用方法 ,而 N2 吸附等
中孔分子筛 TiMCM41 [1 ] . 本文利用 N2 吸附和 温线能提供关于比表面积、孔结构和孔分布的重要
TGD TA 研究了合成的分子筛的比表面积、微观孔 信息[2 ,3 ] . Brunauer 等[4 ] 定义了五种不同类型的吸
结构、孔壁厚度、孔径大小以及模板剂的热脱除情 附等温线 , 其中类型 Ⅳ可用于表征 MCM41 分子
况 ,利用 FTIR ,UVVis 和 UVRaman 等光谱技术 筛. 一般地 ,类型 Ⅳ吸附等温线会在 p / p 0 为 025
对分子筛中钛的配位状态进行了表征. ~04 处产生吸附量的飞跃 ,这与中孔分子筛孔道
中的毛细管凝聚现象有关 ,飞跃的形状可作为孔结
1 实验部分 构几何特性的“指纹”表征 ,飞跃的位置决定了样品
样品的 N2 吸附等温线在 77 K 下于 Coulter 的孔直径 ,而飞跃的幅度决定了孔体积大小. 对于
Omnisorp 360 CX 型吸附仪上利用持续吸附过程得 中孔分子筛 ,利用吸附等温线还可以测得其比表面
到. TG 和D TA 曲线分别在 TGS2 和D TA1700 上 积、孔直径和孔分布 ,并可结合 XRD 测得的晶面间
于 30~800 ℃得到 ,样品用量 002 g. 样品的红外 距 d 100和单胞直径 a0 算出中孔分子筛的孔壁厚度.
光谱是在 Hewlet
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