磁控溅射仪操作手册.PDF

磁控溅射仪操作手册 一．设备开机： 1. 确认室内工作环境适合磁控溅射仪工作。 2. 开电源。在总闸打开的情况下，打开控制磁控溅射仪用电的设备 开关②；开磁控溅射仪的电源开关。 3. 等显示屏上能看见炉腔真空度开冷却循环水。 4. 将空气阀开关调至半开状态 开氩气瓶，氧气瓶和氮气瓶至, 0.1MPa。 5. AUTO AUTO 开分子泵。显示屏进入正常模式之后，调制 档点 “ PUMP”自动开启机械泵和分子泵。然后仪器自动抽取分子泵待。 BackingValve Hi-Va 前级阀 （ ）和高阀 （ ）依次变绿开始抽取主真 空室真空。 二．放样 Ⅰ 进样. 1）在Arm @Home 是绿色的情况下，点击“LLAUTOVENT”，送样室开 始放气。 2）放完气之后，开送样室的大门，将放有待镀膜的样品的工件盘放 入送样线的机械手上，关上送样室的大门，合上大门的开关。 3）点击“LLAUTOPUMP” （根据需要可能需要两次），开始给送样 室抽取真空。待LLAUTOPUMP 由绿变红时，抽取真空完毕。 Ⅱ 送样. 1）点击“LLISOLATION VALVE”,将进样室和主真空室的阀门打开即 可开始送样。 2 “UP-DOWN” “UP” , ）传送样品时，将控制进样的 开关调到 档 逆时针 转动转盘，当带有工件盘的机械手到达主真空室的对应位置。 3）将控制进样的“UP-DOWN”开关调到“DOWN”档，即将工件盘送入 主真空室对应工的件台上。 4）顺时针转动转盘，直至机械手移至送样室对应的部位，这时能听 到进样室和主真空室的阀门关闭的响动信号，此时机械手已经归位。 AUTO 三．样品清洗 （ 模式） 1. 选择自动模式，依次点击“Navigate”,“AUTO CONFIGURATION” 进入自动挡的电源选择界面。 2. 在自动挡的电源选择界面选取偏压溅射，设置偏压溅射的参数， 可以参考如下图。设置好偏压功率，溅射时间，工件盘旋转速率， 本地真空，气体流量。 3. 点击“Overview”进入主界面，观察腔室的真空度，如果真空度未 -6 达到5×10 Torr 需要灌液氮辅助抽真空。 4. 在AUTO 模式下点击“AUTODEPOSITION”开始自动清洗 （注意 射频电源显示示数，反射功率不宜过高）直至完成。 四．镀膜(AUTO 模式) I.直流磁控溅射镀铁膜 1). 选择自动模式，依次点击“Navigate”,“AUTO CONFIGURATION” 进入自动挡的电源选择界面。 2). 在自动挡的电源选择界面选取直流溅射，设置好直流溅射参数， 可以参考如下图，包括溅射的靶腔，射频功率，（预）溅射时间，工 件盘旋转速率，气体流量。 3). 此后的步骤可以参考偏压溅射，完成直流溅射镀膜。 Ⅱ射频反应磁控溅射镀氧化铝膜. 1).选择自动模式 依次点击, “Navigate”,“AUTO CONFIGURATION” 进入自动挡的电源选择界面。 2).在自动挡的电源选择界面选取射频溅射，设置好射频反应溅射参 数，可以参考如下图，设置好射频功率， （预）溅射时间，工件盘旋 转速率，以及氩气和氧气的气体流量。 3). 此后的步骤可以参考偏压溅射，完成射频反应溅射镀膜。 Ⅲ射频磁控溅射镀氧化铝膜. 1).选择自动模式 依次点击, “Navigate”,“AUTO CONFIGURATION” 进入自动挡的电源选择界面。 2).在自动挡的电源选择界面选取射频溅射，设置好射频溅射的参数， 可以参考如下图。设置好射频功率，（预）溅射时间，工件盘旋转速 率，以及气体流量。 3). 此后的步骤可以参考偏压溅射，完成射频反应溅射镀