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4-（毗唳-3-基）-2-駢基嚎瞠缩-1-甲酰基花 希夫碱的合成与表征 作者徐玛丽 指导教师赵明根 （忻州师范学院化学系0901班034000） 摘 要 本论文通过多步骤反应合成嗥醴类衍生物4-（毗喘-3-基）-2-脏基曝卩坐缩-1-甲酰花，并经红外光谱，核磁共振等对其进行结构表征。首先3-乙酰毗噪在氢溟酸与冰乙酸的混酸条件下发生澳代反应生成3滉代乙酰毗喘氢漠酸盐，产率70.78%,熔点、:192?193.8°C,I.R. vniax/cm_, （KBr压片）:2982.7 （亚甲基 C?H, s） , 1711.7 （拨基 OO, s） , 1461.9 （亚甲基 C-H, 6）。 再将1叩酰住与氨基硫脉加热条件下形成1-卬酰佗缩氨基硫HK,产率76%, 熔点:260.5?261.8°C, l.R. vinax/cm_, （KBr 压片）：3438.8 （仲胺 N?H, s）； 3271.0, 3152.0 （伯胺 N?H, s） ； 1592.1 （C=N, s）。最后 3-漠代乙酰毗呢 氢漠酸盐和 卜卬酰世缩氨基硫服在加热条件下反应制得冃标产物，产率 65%,熔点：270.5?272.3°C, l.R. vmax/cm_, （KBr 压片）：3401.0 （仲胺N?H, s） ； 1569.0, 1507.3 （廛哇环骨架）；*H NMR： 67.80?9.30 （m, 15H,芳 环H）。 关键词 3 ?漠代乙酰毗呢氢漠酸盐1 ■甲酰论缩氨基硫魔4-（毗呢-3- 基）基噬啤缩甲酰基庇噬哇衍生物希夫碱合成非线性光学材料 引言 噬醴环具有良好的配位性、热稳定性、耐酸、耐碱及氧化等化学稳定性，在 许多领域都有十分广泛的应用，含单噬呼环的希夫碱及其配合物有独特的荧光 性能并在生物模拟酶催化方面冇新进展，具冇良好的抑菌和抗病毒活性。嗥呼与 Schiff碱的结合使得Schiff碱化合物具有更多更好的特性，这类Schiff碱已在生 物活性、化学荧光和电磁性能等方面得到了广泛的研究⑴。 在目前信息技术高速发展的时代，对光电功能材料的需求也FI趋增长。在光 电子工业中如光开关、光通讯、光信息处理、光计算机、激光技术等都需耍以非 线性光学材料为基础材料，因此，近几I?年来非线性光学材料引起了人们的广泛 关注，对它的研究也以日新月异的速度发展着。自从20世纪60年代，Franken 等人用红宝石激光束通过石英品体，首次观察到倍频效应，从宣告了非线性光学 的诞牛。根据组成可将非线性光学材料大致分为无机非线性光学材料、有机非线性光学材料、无机-有机杂化材料等⑵。 有机非线性光学材料的研究是一个非常活跃的领域，从80年代初开展此项 工作仅20年已取得很大进展，早期的光学材料研究以无机材料为主，目前在光 电子器件屮所用的非线性光学材料大多是铁电无机晶体，其主要是由晶格振动 引起，但只能用单品材料工作且响应时间较慢，而冇机非线性光学材料的非线性 光学响应来源于离域的H电子共辘体系在光场作用下的极化，因而具有非线性光 学系数大，高激光损伤阈值，低介电常数，快光学响应时间，易组合，可裁剪等 其他材料无法比拟的优点。其屮二阶材料和三阶材料的基础研究是受到世界各国 重视的热点研究课题之一⑶。 有机二阶非线性光学材料的基本分子结构有5类：二苯基烯类化合物、二苯 基炊类化合物、偶氮化合物、Schiff碱类化合物、二苯基烯酮类化合物。这5类 的共同特点是具有给体-受体型共辘结构，由不饱和键C = C、cmc、N = N、 C = N、C = O与芳环共純构建起发生分子内电荷转移的有效电子通道，在有机 共轨体系中，分子平而化，n电子趋于离域，因而往往表现出较大的非线性光学 效应。其性能与取代基的电子性质、共辘链链长及共辘骨架有很大的关系 有机三阶非线性光学材料在光开关、光计算、光学双稳元件和光逻辑等领域 屮有潜在应用，对于冇机三阶非线性光学材料的研究主要集中在n共轨聚合物、 多烯和菁染料、猷:菁类化合物、富?勒烯和液晶等物质。1976年，Stauteret等发现 含对甲苯磺酸基团取代基的聚二乙块晶体具有很大的三阶非线性，聚二乙烘是迄 今为止研究最广泛的一类共轨聚合物三阶非线性光学材料。如何从理论上预言材 料非线性性质的大小，如何在众多物质中找出非线性光学材料及如何制备，是人 们研究的热点［7% I本实验将1 ■甲酰花缩氨基硫腺与a浪代酮缩合，形成花环、嗓哩环通过 — c=n—键结合成更大的离域口电子共辘结构，预期具有机非线性光学性质 ,本实验课题旨在合成含有曝呼环的大共饥聚合物，并通过一些相关的表征和测 试，对基于囉醴类Schiff碱的冇机电致发光材料进行了探索。合成路线如下： Stepl:oII(I) Stepl: o II (I) Step2:oiiNi