百纳米级微细图形投影光学光刻偏振成像原理及方法研究光学工程专业论文.docxVIP

摘要百纳米级微细图形投影光学光刻 摘要 百纳米级微细图形投影光学光刻 偏振成像原理及方法研究 余国彬 导师：姚汉民研究员 邢廷文研究员 摘 要 世界半导体业界受到不断进步的光学光刻技术的鼓舞，提高投影光学光刻系 统的数值孔径可以满足对光刻图形的高分辨力需求。超大数值孔径和浸没式光刻 技术的运用，而产生的光学偏振问题也会日益突出，成为了投影光学光刻研究者 所关注的首要问题。这就需要更加深入地了解和掌握投影光学光刻系统中的偏振 成像及其偏振成像控制方法。现在，投影光学光刻设备制造商和研究工作者就越 来越重视基于偏振性的矢量衍射现象，并在他们最新型的设备中引入了偏振成像 控制，以提高光刻成像的对比度和分辨力。 本论文研究了投影光学光刻偏振成像理论，为超大数值孔径的投影光学光刻 系统的研究打下了基础：分析了超大数值孔径下偏振成像中的TE偏振成像和TM 偏振成像的差异，产生成像差异的根本原因是TM偏振光的E．电场分布大小随 数值孔径增大而剧烈变化。进一步分析了TE偏振成像、TM偏振成像的成像对 比度、在光刻胶面的反射和透射情况；提出了在照明系统中加入线偏振器件、偏 振掩模、偏振相移掩模和光栅偏振掩模的偏振成像控制方法；运用了非偏振照明 和TE偏振照明、传统掩模和偏振掩模、传统掩模和光栅偏振掩模的对比光刻实 验，从实验上验证了偏振成像理论和偏振成像控制提高光刻分辨力的原理。 百纳米级微细图形投影光学光刻偏振成像原理及方法研究在投影光学光刻系统中开展偏振成像控制技术的原理和方法的探讨具有很 百纳米级微细图形投影光学光刻偏振成像原理及方法研究 在投影光学光刻系统中开展偏振成像控制技术的原理和方法的探讨具有很 重要的现实意义。偏振成像控制技术将会成为分辨力增强技术的一个新的分支， 这不仅能丰富分辨力增强技术理论，对延长光学光刻技术的寿命，提高光学光刻 的分辨力具有重要意义，而且具有很高的学术意义，还将对超大规模集成电路器 件和工艺的进步起到巨大的推动作用，为我国研究纳米光刻技术打下理论和实践 基础，促进纳米科技发展具有实用价值。 关键词：投影光学光刻；超大数值孔径；偏振成像；偏振成像控制：分辨力 II AbstractAn Abstract An Investigation of Theory and Method of Polarized Imaging in the Optical Proection Lithographic System for about lOOnm Feature Size Yu Guobin Directed by：Prof．Yao Hanmin and Prof．Xing Tingwen Abstract International semiconductor industry is inspired by incessant progressing of optical technology．The requirement of high resolution Can be satisfied by increasing the NA of optical projection lithography system．It is inevitable to apply extreme-NA and immersion lithography technology，which lead tO the problem of optical polarization．And it becomes the major concerning of the researchers of optical projection lithography．It is necessary tO learn and understand the polarized imaging and the polarized imaging control in the optical projection lithographic system．At present，the manufacturers and researchers of optical projection lithography system pay more aaention on the research of vector diffraction based on the polarization than before，and they applied the polarized imaging control which can improve imaging contrast and resolution in their latest equipments。