反应溅射形成氮化钛复合渗镀层耐磨耐腐蚀性能的研究材料加工工程专业论文.docxVIP

太原理工大学硕士研究生学位论文镀层+TIN+TiB2与在基体表面直接PVD沉积薄膜进行了耐磨性对比试 太原理工大学硕士研究生学位论文 镀层+TIN+TiB2与在基体表面直接PVD沉积薄膜进行了耐磨性对比试 验。同时将TiN复合渗镀层与TiN复合渗镀J昙+TiN、TiN复合渗镀层+ TiB2、TiN复合渗镀层+TiN+TiB2、Q235钢基体和不锈钢在1mol／L H2S04 溶液和3．5％的NaCI溶液中进行了耐腐性对比试验研究。 为了了解辉光放电中电子的分布状况及能量，以便更好地对双层辉 光离子渗金属技术的工艺参数进行控制，采用光谱诊断技术，对辉光放 电中等离子体的电子温度、电子密度进行了分析研究。 本课题已获得以下结果： 1、首次将等离子放电中的空心阴极效应、尖端放电、阴极溅射现象 和反应扩散原理相结合，在碳钢表面一次性渗镀合成TiN沉积层+TiN+Ti 固溶体扩散层组织结构的复合渗镀层。 2、反应渗镀合成TiN的试验工艺参数：工作气体(高纯)Ar：N2=100： 9；工作气压32～35Pa；工作电压350～500V：工作电流3．2A；合成温度 1020乜；保温时间2h。 3、TiN复合渗镀层厚度为129m。TiN复合渗镀层+TiN+TiB2表面显 微硬度最高，达到3000HV；TiN复合渗镀层+T烈或TiN复合渗镀层+TiB2 硬度次之；TiN复合渗镀层平均为2000HV；而直接在基体表面PVD沉 积TiN薄膜，表面显微硬度仅为310HV左右。 4、TiN复合渗镀层+TiN或TiN复合渗镀层+TiB2的耐磨性能最好； TiN复合渗镀层次之；基体表面直接PVD沉积薄膜最差。 5、电化学腐蚀试验结果表明： 太原理工大学硕士研究生学位论文1)、在lmol／L 太原理工大学硕士研究生学位论文 1)、在lmol／L H2S04溶液中，TiN复合渗镀层的耐腐蚀性能比Q235 钢和18-8不锈钢分别提高了4．2和1．4倍，其它工艺的耐腐蚀性能都较 TiN复合渗镀层差； 2)、在3．5％的NaCI溶液中，TiN复合渗镀层的耐腐蚀性能比Q235 钢提高了1 82．6倍；比l 8-8不锈钢耐腐蚀程度稍差；其它工艺的耐腐蚀 性能都较TiN复合渗镀层差。 6、在辉光放电等离子体中，当辉光放电电压为500～1000V、P=30～100 P。时，电子温度在2～10eV范围内变化，而电子密度在1021m‘3量级。 关键词：反应溅射，TiN，复合渗镀层，摩擦磨损，耐腐蚀性，辉光放电 太原理工大学硕士研究生学位论文RESEARCH 太原理工大学硕士研究生学位论文 RESEARCH OF WEAR RESISTANCE AND CORROSl0N RESISTANCE WITH TiN MI『I，TI—PEI她ATl0N LAYER FORMED BY REACTIVE SPUTrERING ABSTRACT TiN coating was extensively applied in every area of mechanics， materials，chemical engineering，electronics，and metallurgy,aerospace and SO on due to its many advantages，such as high hardness，low friction coefficient， hi曲adhesive strength，good chemical stability,good electrical conductivity and the same coefficient of thermal expansion as steels．In addition the coating was especially used as high quality cutting—tools and the surface engineering materials of abrasive particles resistance and wear resistance． Now the main methods to prepare TiN coating are as follows：chemical v印or deposition(CVD)，physical vapor deposition(PVD)，plasma chemical vapor deposition(PCVD)，ion beam aided deposition(IBAD)etc In the research a new technique improved Was introduced mainly against some disad