tio薄膜的制备及其性能研究材料学专业论文.docxVIP

西南交通大学硕士研究生学位论文 西南交通大学硕士研究生学位论文 第l页 摘 要 本论文较为系统地研究了Ti—O系薄膜的晶体结构、化学成分、能 级状态、表面形貌、物化性质、机械性能及血液相容性，并研究了薄 膜的成分、结构和表面性质对薄膜血液相容性的影响，同时对其在生 物医用装置中的实际应用也进行了一些尝试。 本文采用非平衡磁控溅射技术，分别利用直流溅射和脉冲溅射方法 在多种基体上制备了金红石型、锐钛矿型、金红石和锐钛矿混合型及 无定形态等多种结构的Ti．O系薄膜。薄膜的成分、结构及性能可以通 过工艺条件的控制在较大范围内进行调整。 研究表明，粒子的能量和沉积温度是影响Ti—O薄膜晶体结构的主要 因素，提高基体导电性、基底偏压、溅射功率、氧分压、沉积温度及 退火温度均有利于金红石结构Ti．O薄膜的形成。薄膜表层为自然氧化 的接近化学计量比的Ti02，而薄膜主体为非化学计量比的Ti02一x，各 成分沿深度方向分布均匀，随沉积02分压的增加，薄膜中的O含量增 加。薄膜表层的价带宽为4．7eV，费米能级较块体材料上移约0．35eV， 为n型半导体，氧晶格缺陷的产生引起薄膜能级状态的改变。 氧分压降低、基底偏压或退火温度升高均会增加瓢．O薄膜的表面粗 糙度。沉积温度、基底偏压和退火处理等工艺条件可以使薄膜的结晶 趋于完整。薄膜的成分、结构、表面粗糙度和晶体完整性等在不同程 度上影响薄膜与水及血液组分间的接触角、表面能分量及其与生物物 质间的界面张力，进而影响薄膜的血液相容性。钛合金和热解碳基体 上沉积Ti一0薄膜后，力学性能和血液相容性显著提高，特别是热解碳 基体上钛过渡层的引入使薄膜和基体间的结合强度大幅度提高。计算 得到薄膜的密度以及折射率、反射率、消光系数、吸收系数等光学参 西南交通大学硕士研究生学位论文 西南交通大学硕士研究生学位论文 第lI页 数。 凝血因子和血小板黏附实验表明，Ti一0薄膜中氧的含量和晶体的完 整性是影响薄膜血液相容性的关键条件，具有n型半导体性质、禁带 宽度3．卜3．2eV、具有较强的亲水性和较高极性分量、成分接近饱和的 金红石型Ti一0薄膜具有优异的抗凝血性能。Ti一0薄膜使抗凝血性能得 到提高的主要原因是其适宜的表面电子结构可以有效地阻止凝血的核 心蛋白质一纤维蛋白原的电荷向材料表面转移，进而抑制凝血的发展。 关键词Ti一0薄膜：非平衡磁控溅射；血液相容性：表面性质；能带结 构 西南交通大学硕士研究生学位论文 西南交通大学硕士研究生学位论文 第1I l页 Abstract In this paper,the chemical composition，microstructure，energy band， morphology,physical，chemical，and mechanical properties and the blood compatibility of Ti—O films were systematically studied，and the relationship between the factors and its blood compatibility was evaluated， and it was attempted to apply this type of coating of artificial cardiovascular devices． Ti—O films埘m different crystalline smacture(rutile，anatase，a mixture of rutiie and anatase，and amorphous)were synthesized by unbalanced pulsed or DC magnetron sputtering on several kinds of substrates．Their composition，structure and surface properties could be controlled in large-scale by regulation ofthe process parameters． The microstructure of the Ti—O films mainly depends on the energy of the particles impinging on the substrate and the deposition temperature Increased electrical conductivity of the substrate，substrate bias voltage， increased sputtering p