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维普资讯 』一年7 第 4卷第 5期 光学 精密工程 V0】．4．No．5 1996年 lO月 OPTICSAND PRECISION ENGINEER1NG October．1996 功能复合光学薄膜的制备及光学性能研究 堕 g辚 (中国科学院E 密扼霸 ，上海201800) u H^ 摘要 研究了溶胶一凝胶法和 spincoating工艺制备染料 ／ORMOSIL、染料 ／聚合物 薄膜的制备工艺、结构 光 学性质及光存储性能及其相互关 系。研 究表明：Pr。VOPc(四 丙基取代钒氧酞菁)．PMMA一四氯 乙烷溶液和菁染料-PVA(聚乙烯醇)一二丙酮醇溶液 都为牛顿型液体 。IP12一D101-PVA薄膜获得 了58dB的载噪比CNR ．记录过程中．载波 信号强度 C、CNR和记录前后薄瞧反射率变化 ,fir的对数存在线性关系。四十丙基的引 入加大了VOPc(钒氧酞菁)分子的体积．增强 了空间阻碍效应 ，使得 Pr．VOPc分子的相 变行为和光学、光谱性质发生一系列较大变化。 关键词，复合功能脚膜I菁染料I酞菁染料I光学性质}光存储性舱 — — 十 —— — — 一 1 引 言 在光盘存储技术的研究开发中，开拓性能优异的光存储介质一直是关键和核心 ，世界各大 公司的研究机构都投入大量人力和物力进行研究开发。有机功能染料作为光盘存储记录介质 具有许多无机光存储材料所不具备的优点 ，已成为研究开发的热点。到 目前为止，研究得最多 的两种有机染料是作为一次写入用 的酞菁染料CI-s3和菁染料 “]。但这两种染料都还存在不 少问题，对菁染料而言，尽管吸光度和反射率理想，但其长期稳定性较差，难 以长期保存记录数 据，多次读出后性能退化较严重；对酞菁染料而言，尽管稳定性较好，但吸收波长和记录激光波 长不匹配 ，溶解性差 ，难 以实现工业化连续生产 。解决菁染料的稳定性和提高酞菁染料溶解度， 是当今光盘存储领域一个急切而艰巨的任务。 菁染料和酞菁染料结构的多样性及可调整性为对它们进行改性提供了可能，合成分子结 构稳定、综合性能优 良的染料是解决有机光存储染料存在问题的主要途径 口“j；同时，研究也表 明使用某些性能优异的分散介质和稳定剂与光存储染料一起成膜，可 以极大地提高光存储染 料的稳定性和成膜性能，这也是一条解决光存储染料现存问题的有效途径口]。 我们和中国科学院感光化学研究所、华东理工大学合作，合成出结构稳定的菁染料 IPI2 和D101，以及溶解度极高的四丙基取代钒氧酞菁Pr。VOPc。并研究了溶胶一凝胶法和 spincoa— ting工艺制备 Pr．VOPc—ORMOSIL、Pr。VOPc—PMMA和菁一PVA薄膜的制备工艺、结构、光学 性质和光存储性能及其相互关系。本文报道我们的研究结果，并对之进行讨论。 收稿 日期t1996年 8月 1日 ● 维普资讯 光学 精密工程 4卷 2 实 验 2．1 薄膜制备及处理 Pr．VOP~在 四氯乙烷中的溶解度达到 20mg／m]i编号为 IPI2和 D101的菁染料母核结构 为吲哚，这是一类稳定性较好的菁染料，它们在醇溶液中溶解性极好 。 分别将Pr。VOPc、IP．I2和 Dl01染料粉末溶于四氯乙烷和二丙酮醇溶液 中，完全溶解后加 入聚合物 PMMA和 PVA，过滤得染料 ／聚合物薄膜前趋旋涂溶液。将溶解在 四氯乙烷中的 PnVOPc加入到 由正硅酸 乙酯、