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曝光强度对卤化银微晶中载流子行为及其陷阱效应-影像科学与光化学
23 1 Vol. 23 No. 1
2005 1 P otograp ic Science and P otoc emistry Jan. , 2005
研究论文
傅广生, 刘荣鹃, 杨少鹏, 江晓利, 代秀红, 李晓苇
( , 071002)
: 针对卤化银感光材料潜影形成过程中光作用动力学问题, 分析了曝光
强度对光生载 子行为和电子陷阱效应的影响, 认为伴随着曝光强度的增加,
影响光电子衰减的因素由电子陷阱起主要作用演化到电子陷阱和复合中心共
同起作用进而演化到复合中心起主要作用.
: 电子陷阱; 复合中心; 曝光强度; 光电子; 光空穴; 卤化银
: 1000-3231(2005) 01-0021-08 : T Q57 : A
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. 1994 EedenCallens
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. , ,
: 2004- 08-23; : 2004- 09-28. : , E-mail: bulrj @ tom. com; Tel: 0312-
5079355; Fax: 0312-5011174.
: ( ; ( 103097) ;
( 01011) .
: ( 1956-) , , , ; ( 1978-) , , ; ( 1964- ) , ,
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