光刻机掩模台六自由度解耦仿真及宏动轨迹规划-仪器科学与技术专业论文.docxVIP

万方数据 万方数据 Classified Index: TP334.7 U.D.C.: 620 Dissertation for the Master Degree in Engineering SIMULATION OF SIX DEGREE-OF-FREEDOM DECOUPLING AND MACRO MOVEMENT TRAJECTORY PLANNING FOR RETICLE STAGE OF LITHOGRAPHY Candidate： Pan Changrui Supervisor： Prof. Wang Lei Academic Degree Applied for： Master of Engineering Speciality： Instrument Science and Technology Affiliation： School of Electrical Engineering and Automation Date of Defence： June, 2014 Degree-Conferring-Institution： Harbin Institute of Technology 哈尔滨工业大学工学硕士学位论文 哈尔滨工业大学工学硕士学位论文 摘 要 在信息时代，大规模集成电路制造技术的重要性日益凸显，而光刻机作为 集成电路制造的核心设备，其重要