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45 卷 11 期 当 代 化 工 Vol.45，No.11 2016 年11 月 Contemporary Chemical Industry November，2016 压力对甲基氯硅烷合成系统的影响 李书兵，庹保华，颜昌锐，王文金 （湖北兴发化工集团股份有限公司，湖北 宜昌 443007 ） 摘 要：以两套80 kt/a 甲基氯硅烷合成装置为研究对象，探讨了反应压力对氯甲烷空床线速度、硅-铜触 体转化率、氯甲烷单级转化率及二甲选择性的影响。结果表明，压力为0.23 MPa 时，氯甲烷空床线速度较高， 反应温度更易实现平稳控制，同时可获得更高的硅-铜触体转化率及氯甲烷单级转化率，但二甲选择性却较 0.30 MPa 时低。 关 键 词：80 kt/a ；甲基氯硅烷；合成装置；反应压力 中图分类号：TQ 0 13.2 文献标识码： A 文章编号： 1671-0460 2016 ）11-2699-03 Effect of Reaction Pressure on Synthesis of Methylchlorosilane LI Shu-bing, TUO Bao-hua, YAN Chang-rui, WANG Wen-jin (Hubei Xingfa Chemicals Group Co., Ltd, Hubei Yichang 443007,China) Abstract: The effect of different reaction pressures on methyl chloride linear velocity, silicon-copper mass conversion rate, methyl chloride single pass conversion and dimethyldichlorosilane selectivity was investigated in two 80 kt/a methylchlorosilane synthesis devices. The results show that the methyl chloride has higher linear velocity and the stationary control of reaction temperature is easier to implement at 0.23 MPa. Although the higher silicon-copper mass conversion rate and methyl chloride single pass conversion can be acquired, the dimethyldichlorosilane selectivity is lower than that at 0.30 MPa. Key words: 80 kt/a; methylchlorosilane; synthesis device; reaction pressure 有机硅材料因其优 的耐高低温、绝缘及生理 所示。本文结合我厂两套装置实际运行情况，探讨 惰性等特点，被广泛应用于国民经济各个领域。自 反应压力对甲基氯硅烷合成系统的影响，以期为进 1941 年E.G.Rochow[1]首次发明以铜粉作催化剂，硅 一步改进生产工艺提供参考。 粉和氯甲烷为原料直接合成甲基氯硅烷以来 简称 表1 两套甲基氯硅烷合成装置关键控制点压力 直接法” ），该法成为目前世界上合成甲基氯硅烷唯 Table 1 The pressure of key control points in two