FUSIONOZONE光阻去除机仪器简介.DOC

FUSION OZONE 光阻去除機 儀器簡介 主要功能 光阻去除 光阻材料 本實驗室曝光機台(G-line, I-line及E-Bean)使用之光阻 3.使用限制: 本機台屬於半導體製程後段機台，僅能使用6吋矽晶圓基板。玻璃基板、 破片、製程中有經任何銅金屬製程者皆禁止使用。 4.機台設備簡介 FUSION O3 機台身份證 全名: 乾式光阻去除機 位置: Class 100 工程師: 吳大為 (O) ext.: 7569 (C) 代理人: 邱文政 (O) ext.: 7561 (C) 機台負責人: 吳大為(O) ext.: 7569 (H) 作業區域化學品: 大宗氣體: N2, O2 特殊氣體: N2O 瓶裝化學品: 有機化合物: 酸/鹼劑: 氧化物: 其他: 製程模式或反應腔: 高溫光阻灰化 反應腔真空度範圍: 常壓 抽真空泵浦: 無 尾氣排放物種: C, H, O 抽尾氣泵浦種類: 無 尾氣排放有無獨立之Local Scrubber: 無 反應腔溫度範圍: 350°C (Max.) 冷卻系統種類: 自給循環冷卻水系統 製造商或代理商: 無 代理商工程師: 　　　　 更新日期: 06 / 13 / 2013