脉冲激光沉积技术教案编写 .pptVIP

激光脉冲沉积;化学气相沉积;脉冲激光沉积的实验仪器图;;脉冲激光沉积法;总的来说，的概念简单易懂。脉冲激光束聚焦在固体靶的表面上。固体表面大量吸收电磁辐射导致靶物质快速蒸发。蒸发的物质由容易逃出与电离的核素组成。若果溶化作用在真空之下进行，核素本身会即时在靶表面上形成光亮的等离子羽状物。下图展示了一些过程中產生的典型等离子羽状物。;PLD的机制;激光辐射与靶的相互作用;熔化物质的动态;2.等离子体在空间的输运;;脉冲激光沉积的优点;PLD中的重要实验参数;PLD法制备薄膜实验流程图;C 激光蒸发镀膜(laser ablation)装置 使用高功率的激光束作为能量进行薄膜的蒸发沉积的方法叫激光沉积法。显然，这种方法也具有加热温度高、可避免坩埚污染、材料的蒸发速率高、蒸发过程容易控制等特点。同时由于在蒸发过程中，高能激光光子将能量直接传给被蒸发的原子，因而激光蒸发法的粒子能量一般显著高于其它的蒸发方法。 (传统蒸发沉积的问题之一是蒸发和参与沉积的能量低，只相当于健合能的数十分之一，LA法和溅射镀膜法在这方面有优势) 在激光加热方法中，需要采用特殊的窗口材料将激光束引入真空室中，并要使用透镜或凹面镜等将激光束聚焦至被蒸发材料上。针对不同波长的激光束，需要选用不同光谱透过特性的窗口和透镜材料。 激光加热方法特别适用于蒸发那些成分比较复杂的合金或化合物材料，比如近年来研究较多的高温超导材料YBa2Cu3O7等。这种方法也存在容易产生微小的物质颗粒飞溅，影响薄膜的均匀性的问题。 ;Laser Ablation薄膜沉积装置 (or Laser deposition 可避免EB蒸发的对衬底X-ray损伤);返回;薄膜沉积的厚度均匀性 在物质蒸发过程中，蒸发原子的运动具有一定的方向性，这时考虑膜厚均匀性的基础。物质的蒸发源可以有不同的形状，其中点蒸发源是最容易进行数学处理的一种，而相对衬底距离较远尺寸较小的都可以被认为相当于点蒸发源。点源时我们可以设被蒸发物质是由面积为Ae的小球面上均匀地发射出来的，这时，蒸发出来的物质总量Me为; 显然，薄膜的沉积速度与距离平方成反比，并与衬底和蒸发源之间的方向角有关。当θ=0，r较小时沉积速率较大。 沉积厚度的均匀性是一个经常需要考量的问题。而且需要同时沉积的面积越大，则沉积的均匀性越难以保证。图示为对于点蒸发源和面蒸发源计算得出的沉积厚度随衬底尺寸大小的变化情况。从曲线可以看出，点蒸发源所对应的沉积均匀性稍好于面蒸发源的情况。;均匀性对策之一: 在同时需要沉积的样品数较多、而每个样品的尺寸相对较小时，可采用下图所示那样的实验部置来改善样品的厚度均匀性。其原理是当蒸发源和衬底处在同一圆周上时，有cosФ=cosθ=0.5r/r0, 其中r0为相应圆周的半径。这时;均匀性对策之二: 当蒸发源与衬底之间存在某种障碍物时，物质的沉积会产生阴影效应，即蒸发来的物质被障碍物阻挡而未能沉积到衬底上。显然，蒸发沉积的阴影效应可能破坏薄膜沉积的均匀性。在需要沉积的衬底不平甚至有一些较大的起伏时，薄膜的沉积将会受到蒸发源方向性的限制，造成有的部位没有物质沉积。同时，也可以在蒸发沉积时有目的地使用一些特定形状地掩膜，从而实现薄膜地选择性沉积。