功能高分子材料--光敏高分子材料.ppt

五、光致变色高分子材料 光致变色高分子材料的定义和分类 含硫卡巴腙络合物的光致变色高分子材料 含偶氮苯的光致变色高分子材料 含螺苯并吡喃结构的光致变色高分子材料 氧化还原型光致变色高分子材料 （1）光致变色高分子材料的定义与分类 在光的作用下，化学结构发生某种可逆变化，对可见光吸收的光谱范围随之发生变化，从而导致其外观颜色可逆变化的高分子材料。 光致变色高分子材料的定义 （1）光致变色高分子材料的定义与分类 光致变色高分子材料的类型 正性光致变色高分子材料（颜色由浅变深） 负性光致变色高分子材料（颜色由深变浅） （2）含硫卡巴腙络合物的光致变色高分子材料 光照前后含硫卡巴腙基聚合物的化学结构 光照前的最大吸收波长为490nm 光照后的最大吸收波长为580nm。 （2）含硫卡巴腙络合物的光致变色高分子材料 典型的含硫卡巴腙络合物的光致变色高分子材料的制备 （3）含偶氮苯的光致变色高分子材料 偶氮苯型聚合物的光致互变异构反应 光照前后最大吸收波长分别为350nm 和310nm （1）光源 光源的选择参数包括波长、功率 光源波长的选择应该与光引发剂或光敏剂的波长作用范围相匹配。 光源的功率主要影响光敏涂料的固化速率，提高光源功率可以提高固化速率。 （2）光引发剂和光敏剂 光引发剂在光的作用下可以生成能够引发光固化反应的自由基等活性中心 具有发色基团的有机羰基化合物、过氧化物、偶氮化物、硫化物和卤化物等，例如安息香、过氧化二苯甲酰、偶氮二异丁腈、硫醇、硫醚等。 （2）光引发剂和光敏剂 光敏剂是容易捕获光能的一类化合物，一般不直接生成自由基等活性中心，而是把吸收的光能传递给其它物质分子例如光引发剂分子，促使其它物质分子分解成自由基等活性中心 常用的光敏剂有苯乙酮和二苯甲酮等芳香酮类化合物。 （2）光引发剂和光敏剂 光引发剂在光反应过程中被消耗，因此加入量要足够。 光敏剂在光反应过程中只是承担能量的转移，不存在消耗问题，一般情况下涂料固化速率随着光敏剂浓度增大而增大。 （2）光引发剂和光敏剂 种 类 感光波长/nm 代表化合物 羰基化合物 360~420 安息香 偶氮化合物 340~400 偶氮二异丁腈 有机硫化合物 280~400 硫醇，硫醚 卤 化 物 300~400 卤化银，溴化汞 色 素 类 400~700 核黄素 有机金属 300~450 烷基金属 羰基金属 360~400 羰基锰 光引发剂的主要种类和性能 （2）光引发剂和光敏剂 常用光敏剂的相对活性 种 类 相对活性 种 类 相对活性 米蚩酮 640 2,6-二溴4-二甲氨基 797 萘 3 N-乙酰基-4-硝基-1-萘胺 1100 二苯甲酮 20 对二甲胺基硝基苯 137 （3）环境条件 环境条件对光敏涂料的固化过程有一定的影响 空气中的氧气对光固化反应有阻聚作用，因此在惰性气氛中有利于光敏涂料的固化反应 （3）环境条件 环境温度对固化速率和固化程度都有影响，一般情况下提高环境温度有利于提高固化速度和固化程度。 三、光刻胶 光刻胶：又叫光致抗蚀剂（Polymeric Photoresist 指在光（例如紫外光）的作用下可以发生光交联或光降解反应、光反应后其溶解性能发生显著变化、具有光加工性能的高分子材料，广泛应用于印刷和集成电路制造等众多领域。 三、光刻胶 正性光刻胶（Positive Photoresist) 光刻胶的分类 负性光刻胶（Negative hotoresist） 三、光刻胶 电子束光刻胶 光刻胶的分类 紫外光刻胶 远紫外光刻胶 X射线光刻胶 三、光刻胶 集成电路光刻工艺示意图 光致抗蚀剂层 1.涂胶 2.曝光 3.显影 4.刻蚀 5.剥胶 光线 掩膜 正性光刻胶 负性光刻胶 基层 氧化层 （1）负性光刻胶 例如聚乙烯醇肉桂酸酯光刻胶、环氧化聚丁二烯光刻胶等 负性光刻胶的主要成分 分子链中具有不饱和键、环氧基团等反应活性点的可溶性聚合物 （1）负性光刻胶 聚乙烯醇肉桂酸酯光刻胶的制备反应和作用机理示意图 （1）负性光刻胶 作用原理与上述过程相似的负性光刻胶还有 环化橡胶 聚乙烯氧肉桂酸乙酯 聚对亚苯基二丙烯酸酯 聚乙烯醇肉桂叉乙酸酯 聚乙烯醇(N-乙酸乙酯)氨基甲酸酯-肉桂叉乙酸酯 肉桂酸与环氧树脂形成的酯类 （1）正性光刻胶 典型的正性光刻胶 具有邻重氮萘醌结构的线性酚醛树脂 四、高分子光稳定剂 1. 高分子材料的光老化 2. 光稳定剂的作用机理 3. 光稳定剂的种类与应用 高分子材料的光老化 在光、热、氧化剂、水分和其他化学物质作用下，高分子材料的性能会逐渐变坏，以致最后失去使用价值