计算机控制的反应离子刻蚀系统及刻蚀研究-光学工程专业论文.docxVIP

浙江大学硕士学位论文摘 浙江大学硕士学位论文 摘 要 本文阐述了微系统的发展过程，叙述了二元光学的研究现状和二元光学的成 形过程，比较了几种不同的刻蚀方法。并且详细论述离子刻蚀的原理以及离子源 的参数设计。从设计者的角度详细说明了用计算机控制反应离子刻蚀机的硬件系 统、接口设计和软件。并且设计了用单片机的脉冲调制技术实现了多路D／A转 换。 反应离子束刻蚀是二元光学器件面形转移的主要方法。本文介绍了反应离子 束刻蚀的原理并研究了离子源设计的一些经验参数和各种刻蚀参数对二元光学 器件成形过程的影响，以及不同材料二元光学器件的刻蚀速率。 本文详细讨论了计算机控制的反应离子刻蚀机各个部分的硬件接口电路和 设计思想。并重点介绍了用单片机实现数、模转换的基本思想以及电路设计和参 数选择。 软件分为上位机软件和下位机软件两种，上位机软件是用C++语言编写的， 通过一个定时程序使各个控制命令按一定的时序顺序的执行，并不断的检测是否 有错误出现需要报警。下位机软件是用汇编语言编写的，使用了定时器中断和外 部中断作为输出和输入。 本文在附录中还详细介绍了硬件部分的端口分布和引脚分布，以及各个端口 引脚的功能。 关键词： 二元光学 离子刻蚀脉冲调制 浙江大学硕士学位论文Abstract 浙江大学硕士学位论文 Abstract In the thesis，the development of Micro—system is explained，the present search of binary optics and the main methods used for take it shape are dictated，Some kinds ofthemethod ofetchis compared．Thetheoryofion etchingandthe parameterofion source designing are discussed in detail．Illuminate the reactive ion beam etching machines system of hardware、design of interface and software from the point of disigner’view．Device circuit to achieve multiplex D／A transition by using pulse—-wild-modulate(PWM)technology． Reactive ion beam etching is a key technique for the transfer of the profile of binary optical components．This thesis has introduced the theory of reactive ion etching and investigated some empirical parameter of ion source designing and the affect of the transfer of the profile of binary optical components by using diverse etching parameter,has investigeted the etching velocity of different binary optical components at the same time． Hardware’S interface electroeircuit and designing idea of the reactive ion etching machine is explained in this thesis．The basic idea for realizing the transfer from digital signals to analog signals and the choosing of eletrocircuit’S parameter is introduced in this thesis also． Software Can be assorted to two kinds：computer system and single·chip control system．Computer system’S software is completed by C++language．each control command is executed according on some time order,and che