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第 卷 第 期 中 国 表 面 工 程
27 4 Vol.27 No.4
年 月
2014 8 CHINASURFACEENGINEERING Auust 2014
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: /
doi10.3969 .issn2014.04.009
j
粗糙度和尖峰高度对粗糙铜晶圆表面化学反应
动力学参数的影响
,
1 1 1 1 12
李 炎 ,刘玉岭 ,牛新环 ,王傲尘 ,李洪波
( 河北工业大学 微电子研究所,天津 ; 河北联合大学 信息工程学院,河北 唐山 )
1. 300130 2. 063000
摘 要:根据液固化学反应特性和欧几里得有效面积公式,建立了适用于粗糙晶圆表面的化学反应动力学
方程,得到了不同晶圆表面的化学反应速率常数和化学机械平坦化( )前后晶圆质量差。根据晶圆表面
CMP
不同位置的 ( ) 拟合直线斜率和截距的平均值,得到了每个晶圆表面的分形维数与尺度系
l RMSheiht l狓
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数,进一步得到了铜膜化学反应分级数。通过分析晶圆表面分形维数对化学反应动力学参数的影响,可以得
出:当表面分形维数为 时,铜膜的化学反应分级数为 ,此时铜膜的络合反应过程中的所有瞬时反应
2.917 1
数量达到最小值。最后的验证试验表明:晶圆表面分形维数越大, 后尖峰消除量越大,即铜膜表面化学
CMP
反应速率越快;晶圆表面分形维数越小, 后粗糙度下降越明显,即铜膜表面化学反应均匀性越好。
CMP
关键词:质量作用定律;动力学方程;分形维数;均方根高度;粗糙度
中图分类号: 文献标志码: 文章编号: ( )
TG175 A 10079289201404005806
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