脉冲偏压电弧离子镀cr-o薄膜制备及其性能研究-材料连接技术专业论文.docxVIP

研究生优秀毕业论文 大连理工大学硕士学位论文摘 大连理工大学硕士学位论文 摘 要 氧化铬因其具有高硬度、高温稳定性、高化学稳定性及抗腐蚀等性能，被广泛应用 于冶金、颜料、磨料、耐火材料及新发展的熔喷涂料等方面。近年来对氧化铬薄膜的研 究主要集中在成分结构、机械性能、摩擦磨损性能与作为太阳能选择吸收薄膜的可行性 等。本论文采用脉冲偏压电弧离子镀技术在石英玻璃及硅片上制备铬的氧化物薄膜，并 对薄膜的成分、结构、力学性能及光学性能进行研究，以期获得具有良好力学性能及光 学性能的氧化铬薄膜，目的在于能在发展离子镀膜工艺技术的同时，进一步丰富可用于 表面改性的陶瓷薄膜材料库。 首先，在仅改变氧气流量情况下采用脉冲偏压电弧离子镀技术在石英玻璃及(1 1 1) 单晶硅基片上制备一系列Cr．O薄膜。研究了氧气流量(40 sccm．200 sccm)对薄膜表面 形貌、结构、硬度及光学性能的影响。研究结果表明：采用脉冲偏压技术成功制备出了 一系列Cr-O薄膜；所得薄膜表现出良好的表面质量；薄膜中各元素的含量基本保持相 对稳定。薄膜的硬度均在1 9．0 GPa以上，并且在氧气流量为1 60 sccm时达到最大值24．8 GPa；当氧气流量为80 sccm时所得薄膜表现出良好的透光率，最大值为71％：其光学 带隙也达到了最大值1．81 eV。 其次，在不同偏压幅值下采用脉冲偏压电弧离子镀技术在石英玻璃及(1 11)单晶硅 基片上制备了均匀透明Cr-O薄膜。研究了偏压幅值(0—500 V)对薄膜表面形貌、结构、 硬度及光学性能的影响。研究结果表明：制得薄膜均具有良好的表面质量，且随偏压幅 值的增大薄膜表面质量有明显提高；当施加偏压时薄膜中出现晶化相，且随着偏压幅值 的增加，其相结构由Cr203相向CrO相转变；薄膜硬度先增大后减小，负偏压为-300 V 时，硬度达到最大值24．4 GPa：制得薄膜表现出良好的光学性能，最高可达72％，随偏 压幅值增大薄膜吸收边先红移后蓝移，当负偏压为-200 V时薄膜光学带隙达到最大值 1．88 eV。 关键词：Cr一0薄膜；电弧离子镀；相结构；光学性能 万方数据 脉冲偏压电弧离子镀Cr_0薄膜制备及其性能研究Study 脉冲偏压电弧离子镀Cr_0薄膜制备及其性能研究 Study on properties of Cr一0 films deposited by pulsed bias arc ion plating Abstract Chrome oxide with high hardness，high temperature stability，excellent corrosion resistance and other properties be applied to metallurgy，pigment，abrasive，fire-proof material and new development of melt·blown coatings，etc．In recent years，the study of chromium oxide films iS mainly concentrated on the structure，mechanical properties，friction and wear properties，solar selective absorbing film and on．In this paper chromic oxide films are synthesized on silicon and quartz glass by the pulsed bias ion plating．The structure，mechanical properties and optical properties of thin films is studied．It is looking forward to get good mechanical and optical properties of transparent film． Firstly，a series of uniform and transparent Cr-O films were synthesized the silicon (1 1 1)and quartz glass substrates at different oxygen flow rates by pulsed bias ion plating． The results indicate that a series of transparent films prepared．The thin films show good