奈米加工技术探讨.DOC

奈米加工技術探討 陳行諭 本篇是描述微加工技術應用於100nm以下奈米光刻時代，由於光學的蝕刻輪廓技術被限制在sub-100nm無法應用在更精細圖案上，因此幾種新技術預期取代現有光學的蝕刻輪廓技術；如電子束光刻、X光-射線技術，既將成為大量生產使用工具。預計西元2005-2010可廣泛被使用。掃瞄探針顯微技術(SPM)是最有可能用於大量生產使用圖案輪廓掃瞄工具之一，雖然SPM受限於它的寫入速度，它仍然足夠應付大量生產。 微機械隧道掃瞄探測顯微鏡技術(μ-STM)，也有可能廣泛被使用，一些報告顯示μ-STM應用於精密技術金屬-氧化半導體場效用相容技術(CMOS FET)。μ-STM是應用真空隧道效用原理其使用二種不同導體，一種高傳輸電子顯微鏡技術(TEM)可能應用於光刻系統；另一種是利用單原子特性解決光刻系統所產生問題。 一、簡介 今天有高進步的資訊加工儀器要歸功於超大型積體電路(ULSI)改革技術，例如；個人電腦讀寫裝置、計算能力、網際網路傳遞資訊，都依賴ULSI高執行能力。ULSI技術改革始於1970年，並且以每三年成長四倍。當一些裝備、技術、材料、物理性質等技術突破，預期持續成長至下一世紀。雖然有一些悲觀主義與樂觀主義爭論，無論如何，持續成長驅勢是不變的。 由於光學的蝕刻輪廓技術限制在sub-100nm，幾種技術將來會取代它，電子束光刻或X光-射線技術可以實現加工100nm以下