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圆盘定理及其应用 摘要：给除了矩阵特征值的定义及确定特征值范围的圆盘定理，并对特征值估计和定位的圆盘定理进行了深入的研究，同时对对角占优实矩阵给出了更加精确的估计和定位特征值的方法。由于圆盘定理对估计特征值有其它方法不可替代的优势，所以圆盘定理在各个行业得到了广泛的应用。在集成电路加工工艺中，有一种工艺是离子注入，它可比较精确的控制离子的注入量和注入位置。但离子注入后会对半导体的晶格结构造成影响，为了让破坏的晶格得到修复，在离子注入后要对半导体进行退火的加工工艺。本文就利用圆盘定理，基于模拟退火法提出了一种新的算法，新算法用于解决实特征值的求解问题，具有通用姓，并且具有很高的稳定性。在精确度要求极高的集成电路退火工艺中，一定会有很好的应用。 关键字：圆盘定理 矩阵特征值 集成电路退火工艺 退火算法 一 引言 设，如果存在，，且0，满足，则称复数为方阵A特征值，x为对应于的特征向量。我们知道对每一个方阵在复数域内有n个特征值。 特征值理论及应用渗透到数学和其他科学的很多领域。其主要方面是如何求出n个特征值。求方阵n个特征值从理论上讲是求：，即的根。 当n时，特征方程没有一般的求根公式。因此，关于特征值的研究转入两方面内容：第一，近似求特征值；第二，特征值的估计和定位。事实上，在很多应用方面往往不必精确求出特征值，而是只要一个粗略的估计就可以了。例如在微分方程和自动控制理论研究中，通过