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* 二、 PN结的单向导电性 PN 结加上正向电压、正向偏置的意思都是: P 区加正、N 区加负电压。 PN 结加上反向电压、反向偏置的意思都是: P区加负、N 区加正电压。 * - - - - + + + + R E 1、PN 结正向偏置 内电场 外电场 变薄 P N + _ 内电场被削弱,多子的扩散加强能够形成较大的扩散电流。 * 2、PN 结反向偏置 - - - - + + + + 内电场 外电场 变厚 N P + _ 内电场被被加强,多子的扩散受抑制。少子漂移加强,但少子数量有限,只能形成较小的反向电流。 R E * PN结加正向电压时,呈现低电阻,具有较大的正向扩散电流; PN结加反向电压时,呈现高电阻,具有很小的反向漂移电流。 由此可以得出结论:PN结具有单向导电性。 * 3 PN结方程 其中 PN结的伏安特性 IS ——反向饱和电流 VT ——温度的电压当量 且在常温下(T=300K) * 三、 PN结的反向击穿 当PN结的反向电压增加到一定数值时,反向电流突然快速增加,此现象称为PN结的反向击穿。 热击穿——不可逆 雪崩击穿——高反压,碰撞电离 齐纳击穿——较低反压,场致激发 电击穿——可逆 * 四、 PN结的电容效应 PN结具有一定的电容效应(结电容),它由两方面的因素决定。 一是势垒电容CB , 二是扩散电容CD 。 * 1 势垒电容CB 势垒电容是由空间电荷区的离子薄层形成的。当外加电压使PN结上压降发生变化时,离子薄层的厚度也相应地随之改变,这相当PN结中存储的电荷量也随之变化,犹如电容的充放电。势垒电容的示意图如下。 * 扩散电容是由多子扩散后,在PN结的另一侧面积累而形成的。因PN结正偏时,由N区扩散到P区的电子,与外电源提供的空穴相复合,形成正向电流。刚扩散过来的电子就堆积在 P 区内紧靠PN结的附近,形成一定的多子浓度梯度分布曲线。 2 扩散电容CD 反之,由P区扩散到N区的空穴,在N区内也形 成类似的浓度梯度分布曲线。扩散电容的示意图 如下页所示。 * 扩散电容示意图 当外加正向电压 不同时,扩散电流即 外电路电流的大小也 就不同。所以PN结两 侧堆积的多子的浓度 梯度分布也不同,这 就相当电容的充放电 过程。 势垒电容和扩散电容均是非线性电容。都很小。 正偏时扩散电容为主;反偏时势垒电容为主。 * §2 半导体二极管 PN 结加上管壳和引线,就成为半导体二极管。 引线 外壳线 触丝线 基片 点接触型 PN结 面接触型 P N 二极管的电路符号 高频,小电流 低频,大电流 * 半导体二极管的型号 国家标准对半导体器件型号的命名举例如下: * 半导体二极管图片 * * §2.1 伏安特性 U I 死区电压 硅管0.5V,锗管0.1V。 导通压降: 硅管0.6~0.8V,锗管0.1~0.3V。 反向击穿电压UBR * §2.2 二极管的等效电路 1. 理想模型 3. 折线模型 2. 恒压降模型 * 4. 小信号模型 二极管工作在正向特性的某一小范围内时,其正向特性可以等效成一个微变电阻。 即 根据 得Q点处的微变电导 则 常温下(T=300K) Q ?? * 叠加 !! * §2.3 主要参数 1. 最大整流电流 IOM 二极管长期使用时,允许流过二极管的最大正向平均电流。 2. 反向击穿电压UBR 二极管反向击穿时的电压值。击穿时反向电流剧增,二极管的单向导电性被破坏,甚至过热而烧坏。手册上给出的最高反向工作电压UWRM一般是UBR的一半。 * 3. 反向电流 IR 指二极管加反向峰值工作电压时的反向电流。反向电流大,说明管子的单向导电性差,因此反向电流越小越好。反向电流受温度的影响,温度越高反向电流越大。硅管的反向电流较小,锗管的反向电流要比硅管大几十到几百倍。 以上均是二极管的直流参数,二极管的应用是主要利用它的单向导电性,主要应用于整流、限幅、保护等等。下面介绍两个交流参数。 * 4. 微变电阻 rD iD uD ID UD Q ?iD ?uD rD 是二极管特性曲线上工作点Q 附近电压的变化与电流的变化之比: 显然,rD是对Q附近的微小变化区域内的电阻。 * 二极管:死区电压=0 .5V,正向压降?0.7V(硅二极管) 理想二极管:死区电压=0 ,正向压降=0 RL ui uo ui uo t t 二极管的应用举例 二极管半波整流 * §2.4 稳压二极管 U I IZ IZmax ?UZ ?IZ 稳压误差 曲线越陡,电压越稳定。 + - UZ
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