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射线照相效果影响因素分析 论文导读：评价射线照相最重要的指标是射线照相灵敏度。即射线能量的选择。只要暗室处理得当。尽管射线透照工艺掌握的十全十美。 关键词：射线照相灵敏度,射线透照工艺,射线能量,暗室处理,胶片的显影 对材料性能的无损评价是当前热点，也是无损评价的基本任务。它所依据的事实是材料的机械性能是由晶体结构、形态等内在因素决定的。通过对材料进行X射线照相后对影象进行分析得到对材料的评价，它包括以下几个方面。 1射线照相灵敏度的影响因素 评价射线照相最重要的指标是射线照相灵敏度。所谓射线照相灵敏度从定量方面说，是指在射线底片上可以观察到的最小缺陷尺寸或最小细节尺寸；从定性方面来说，是指发现和识别细小影象的难易程度。实际工件中，常用与被检工件或焊缝厚度有一定百分比关系的人工结构即像质计作为底片影象质量的监测工具。 射线照相灵敏度是射线照相对比度(小缺陷或细节与其周围背景的黑度差)，不清晰度(影象轮廓边缘黑度过渡区的宽度)，颗粒度(影象黑度的不均匀程度)三大要素的综合效果，可归纳为表１.１。 表1.1 射线照相灵敏度的影响因素 射线照相对比度D 射线照相不清晰度U 射线照相颗粒度Gr 主因对比度 胶片对比度 几何不清晰度 固有不清晰度 取决于： a.由缺陷造成的透照厚度差T(缺陷高度、形状、透照方向) b.射线的质(或，kvp，Mev) c.散射比n(n=Is/Ip) 取决于： a.胶片类型(或梯度G) b.显影条件(配方、时间、活度、温度、搅动) c.底片黑度D(D) 取决于： a.焦点尺寸df b.焦点至工件表面距离L1 c.工件表面至胶片距离L2 取决于： a.射线的质(或，kvp，Mev) b.增感屏种类(Pb、Au、Sb) c.屏与片贴紧程度 取决于： a.胶片类型Gf b.射线的质(或，kvp，Mev) c.显影条件(配方、时间、温度 2 射线透照工艺的四要素 在同一物质条件下，不同的人所得到的射线底片质量很可能是不同的，这里涉及到技术问题，即射线能量的选择，曝光量的选取，焦距的选用和散射线的预防等四要素的配合运用。从理论上学通、弄懂这四要素的逻辑关系，分明主次，合理取舍，并在实际操作中认真贯彻，只要暗室处理得当，一定会透照出高质量的射线底片。 2.1射线能量的选择 透照工件时选择射线能量即管电压的原则是：在保证工件被穿透的条件下应尽量选择低的管电压，这样可以提高底片对比度，从而提高射线检验的灵敏度。 2.1曝光量的选取 X射线曝光量的定义是：X射线管的管电流与曝光时间的乘积。曝光量的选取原则是：在可能条件下，尽量选用大的管电流和短的曝光时间。这是因为选用尽量大的管电流可以充分发挥X射线机的效率，从而提高工作效率并减少散射线的作用时间，对提高底片的清晰度也是有利的。 2.3焦距的选用 2.3.1按射线机的焦点尺寸：如果使用的射源焦点极大，可选用较大焦距。 2.3.2按源的射线强度和胶片感光度：如果使用的X射线机管电流较大，或选用的X射线胶片感光度也较大，可选用较大的焦距。 2.3.3按被检工件数量、形状和尺寸：若每次透照零件的形状和尺寸相同，且数量较多时，可选用较大焦距以增大透照场面积；在分段透照管材时，为尽量减少沿工件圆周方向的分段次数，可适当提高焦距以增大每次透照的有效长度。 总之，选用焦距时应满足最小焦距要求(依据诺模图确定)，至于采用的最大焦距应根据工作中的具体情况进行综合分析，以满足灵敏度要求为原则。 2.4散射线的预防 散射线主要有两个特性：一是辐射方向不定，二是射线能量低。由于散射线的辐射方向不定，使底片清晰度下降，从而降低了射线检验的灵敏度。此外，由于散射线能量低，因而更容易被胶片吸收，增加其危害程度。 2.4.1采用铅制光阑限制一次射线的辐射范围。 2.4.2将滤波板置于X射线管防护套的窗口上，吸收部分无用的软射线。 2.4.3被透工件上不需曝光的部位用铅板遮蔽起来，可屏蔽来自前方或侧面的射线。 2.4.4为防止背散射，可加厚铅增感屏的后屏厚度，或在胶片后面垫以厚为1～4mm的铅板。 3 暗室处理的讨论 [1] 暗室处理过程是射线检验工作中的重要环节，尽管射线透照工艺掌握的十全十美，并在曝光胶片上留下了理想的工作潜影，可是由于暗室处理的条件很差或工艺失误，往往造成前功尽弃，因此射线检验工作的暗室处理与工件的透照同等重要。 3.1胶片的显影：显影作用的实质是用还原剂(显影剂)把曝光的溴化银还原成金属