离心纺丝机——新型纳米纤维纺丝装置.docVIP

离心纺丝机——新型纳米纤维纺丝装置.doc

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离心纺丝机——新型纳米纤维纺丝装置 行业动态 FiberNeWS 安德里兹寇司德和安德里兹帕弗杰德将参加 2011上海纺机展 安德里兹寇司德和安德里兹帕弗杰德将在 Shanghaitex2011展会上展示纺织品与非织造布行业 的相关产品. 基于我们的标语”textileeXcellence”,安德里兹 寇司德在轧光机和辊筒技术上具备了多年的技术经验 以及全方面的技术知识. AndreasLukas,安德里兹寇一J德的副总裁说: “纺织轧光机和辊筒都是在兜莱菲尔德制造生产已经 超过了150年!”寇一j德和克莱维福斯充足的经验是 构成新安德里兹寇司德teXcal技术的奠基.均匀辊 和活塞辊这两个独一无二的挠曲控制辊系统是我们的 核心技能.我们的客户得到的是与他们的产品完全匹 配的轧光机技术. 由于最火线压力可达到400N/ram,teXea]带挠 曲控制的均匀辊设立了行业新的高标准,特别是针对 特殊功能的纺织品,如可控的低透气性,渚如降落伞 布. 安德里兹寇司德的均匀辊技术在各种各样的纺织 工艺中都展现了杰出优越的表现.安德里缘寇划德和 安德里兹(_卜海)贸易有限公刮将会为所有纺织领域 的均匀辊系统提供全面的,遍布全球的服务,包括维 修,翻修辊筒和控制系统的原始配件及原始箭川辊. 除此之外,安德里兹还将展示针x,-J1~织造布行业 的一系列服务内容.包括安德里兹帕弗杰德提供的一 流的水刺,纺粘水刺和烘于技术,以及最新的非织造 布湿整理和完整的湿法非织造布生产线. 安德里兹和上海安德里兹的专家将十分乐意与您 5O合成纤维SFC2011No.4 在Shanghairexf位于E1馆D36展位时间:2011年 6月14日至2011年6月17日)展会上讨沦最新的发 展与服务. 如果您还想了解更多,请联系 ANDRITZKiistersNonwoven: HelgaKenis ManagerMarketingamp;Communications 安德里兹寇司德 HelgaKenis 市场经理 电话:+49(2151)342564 helga.kenis@andritz.tom /nonwoven 离心纺丝机——新型纳米纤维纺丝装置 在许多应用中,纳米产品已为其从实验室走向用 户铺平了道路.然而,纳米纤维的应j{j领域仍然相当 狭窄,而且工业用的纳米纤维几乎都过滤材料有 关.迄今为止,消费产品基本上都限制在直径为2~ 5tn以上的所谓超细纤维.即使每根纤维直径在 1000n-n以下的都可以被称为纳米纤维,但从通常能 被接纳的定义而言,直径在500nm以下的才能称是 纳米纤维.纳米纤维技术未能得到广泛应用的其中一 个原因是同以往的生产技术有关.这些技术的特点是 投资成本高但生产率低.为了使纳米纤维生产技术有 所突破,RieterOFFH德国ITV研究所经过5年研究, 开发出一种离心纳米纤维纺丝装置,用它生产的纳米 纤维直径低达80nm.这剃离心纺丝装置只有3个纺 丝头,但其挤出量比常规的25排,1250个喷嘴的静 电纺丝装置高1000倍.离心技术使纳米纺丝向前跨 出一大步,且这种技术可用于各种聚合物的加工, 例如,聚酰亚胺(PI),聚丙烯腈(PAN),聚环氧乙 烷(PEO),聚乳酸(PLA),聚苯乙烯(es),聚碳酸 酯(Pc),聚酰胺(PA),醋酯纤维素以及对位芳纶 等.RieterOFT所用的离心纺丝装置由德国Dienes公 司制造.同现有的静电纺丝设备相比,离心纺丝装置 的优点是它结合了离心力和电场的两大功能,所制成 的纤网不但均匀性好而且纤网的面密度也远高于低面 密度的静电纺纤网(0.3m:).此外,离心纺的纺丝 头为超薄型设计,非常适合有限空间的使用,它还可 以同水刺工艺组合用于多层非织造布生产线中.由于 离心纺生产装置可加工多种聚合物,所以这种技术有 一 定的市场潜力.(金立国译) EdpaKimya被指定为Basofil⑧纤维分销商 位于美北卡罗莱纳州Hickorv的BasofilFibers LLC是一家耐热阻燃纤维——Bas0fil纤维的生产商. 该纤维被应刖于过滤,床上用品及防护服等领域.这 家公司已指定土耳其的EdpaKimya为Basofil纤维在 土耳其和周边国家的分销商. “Edpa在土耳其及其J舌l边家中拥有强大的市场 地位,将其与我们世界上其它地方的销售商的销售力 量和销售网络相结合将会继续增强Basofil品牌影响 力.”BasofilFibers母公司Sumlin集刚委托人[)avid (金磊译) EastexProducts推出防水透气医疗卫生织物 位于美国马萨渚塞州ttolbrook的EastexProducts Inc.是一家为医疗卫生及其它市场提供纺织品和解决 方案的供应商.该公一J推出了一系列面rⅡ

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