泉耀光触媒ONID-TA抗污易洁反应机制.pdf

泉耀光觸媒 ONID-TA 抗污易潔反應機制 化学性的表面污染物分解作用 ： 物理性的除污作用 ：利用 利用ONID-TA光触媒吸收光线所 ONID-TA光触媒吸收光线所产 产生的高氧化力的氢氧自由基等 生的超亲水性，使水容易进入 活性物质，分解表面污染物，使 污染物与底材间隙之中，而使 污染物附著能力变弱而易被雨水 污染物易被雨水冲刷掉落。 帶走或被水冲洗。 O 材 基 等 璃 玻 N 材 基 等 璃 玻 O CO H O 材 基 等 璃 玻 O I 材 基 等 璃 玻 O 2 2 D N N T- I N 材 基 等 璃 玻 O I A D I N D - D - T - I T A T D A A T- A 一般而言，纳米光触媒的『除污』功能系指化学性作用 除污，例如：表面上的有机污染物在日光与光触媒长时间 作用下，可被分解为水与二氧化碳，而从物质表面逸散消失。但在很多情況下，污染物尚未被分 解至水与二氧化碳时，就已经被雨水自表面冲刷掉落，达成抗污易洁效果。 泉耀光触媒 ONID-TA 抗污易洁应用实例 §. 玻璃 ： 涂布 未涂布 泉耀光触媒 ONID-TA 抗污易洁应用实例 §. 马赛克磁砖 ： 处理前 处理后六个月 Coated 处理前 处理后六个月 泉耀光触媒 ONID-TA 抗污易洁应用实例 §. 水泥制品 ： 清洁后六个月 工研院纳米中心入口阶梯 清洁且涂布处理后六个月 处理前 清洁且涂布处理后 12个月 泉耀光触媒 ONID-TA 抗污易洁应用实例 §. 烤漆制品 ： 清洁后四个月 清洁后 八个月 清洁且涂布处 理后八个月