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J㈣嶝必炒苏州大学学位论文使用授权声明
J㈣嶝必炒
苏州大学学位论文使用授权声明
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涉密论文口
本学位论文属 在——年一月解密后适用本规定。
非涉密论文囤
论文作者签名: 型圣 日 期:垫!!:生:i
导师签名:毒囊窖扯日 期:三竺里型丑
万方数据
共面转换模式液晶显示的制造与Nozzle
共面转换模式液晶显示的制造与Nozzle Mura改善工艺的研究 中文摘要
共面转换模式液晶显示的制造与
Nozzle Mura改善工艺的研究
中文摘要中又于两要
本文主要以液晶显示的原理及物理特性为基础,阐明了共面转换(IPS)模式 液晶显示原理及结构特点后,重点研究了薄膜晶体管液晶显示的制造工艺,并对工 艺缺陷Nozzle Mura进行了研究及改善。本研究对于了解目前IPS液晶显示器的显 示原理特性及生产工艺流程,改善工艺中存在的缺陷,提供了一定的理论和实践基 础。
本论文首先对液晶显示行业的发展现状及国内外发展趋势进行了基本的介绍:
其次,从IPS模式液晶显示的显示结构、显示模式、材料特性及功能优缺点方 面进行了物理结构和物理性质的基本阐述,重点对显示结构和液晶材料的分类及其 应用物理性质方面进行了讨论;
再次,着重讨论了IPS模式的LCD前段生产工艺及性能指标,对阵列制程中 成膜、光刻、刻蚀制程和成盒制程取向剂涂布、摩擦、成盒组立等重要制程进行了 全面的阐述,并对液晶显示器的分辨率、开口率、视角及对比度等特性进行了分析 及讨论;
最后,通过对LCD前段制程中产生的Nozzle Mura缺陷进行了重点研究分析, 借助实验及实践分析对取向剂涂布制程中Nozzle角度及管径进行优化,达到改善 NozzleMura的目的。
关键词:共面转换;液晶显示;液晶显示缺陷;Nozzle Mura;TFT-LCD生产工艺。
作 者:赵龙
指导教师:张冬利
万方数据
Abstraet
Abstraet Study of IPS mode LCD manufacturing and Nozzle Mum process improvement
Study of IPS Mode LCD Manufacturing and Nozzle
Mura Process Improvement
Abstract
In this thesis,the research lS focused on the solve of Nozzle Mura phenomenon in thin-film transistor liquid—crystal display’S manufacture techniques.Structure and theory of In-Plane Switching Liquid Crystal Display(IPS LCD)based on liquid crystals’ theory and physical characteristics are also expatiated This thesis provides detailed theory and application foundation to acquaintance the IPS—LCD’S theory,physical characteristics,manufacture techniques,and production techniques to improve the defect
of Liquid Crystal Displays.
First,we introduced the present situation of the development of liquid crystal displays and the development trend in China and abroad。
Then,on the basis of liquid crystals’theory and physical characteristics,we expatiated the IPS—LCD’S structure,modes,and material characters.
And,we foc
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