共面转换模式液晶显示的制造与Nozzle Mura改善工艺的研究分析.docxVIP

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J㈣嶝必炒苏州大学学位论文使用授权声明 J㈣嶝必炒 苏州大学学位论文使用授权声明 本人完全了解苏州大学关于收集、保存和使用学位论文的规定, 即:学位论文著作权归属苏州大学。本学位论文电子文档的内容和纸 质论文的内容相一致。苏州大学有权向国家图书馆、中国社科院文献 信息情报中心、中国科学技术信息研究所(含万方数据电子出版社)、 中国学术期刊(光盘版)电子杂志社送交本学位论文的复印件和电子 文档,允许论文被查阅和借阅,可以采用影印、缩印或其他复制手段 保存和汇编学位论文,可以将学位论文的全部或部分内容编入有关数 据库进行检索。 涉密论文口 本学位论文属 在——年一月解密后适用本规定。 非涉密论文囤 论文作者签名: 型圣 日 期:垫!!:生:i 导师签名:毒囊窖扯日 期:三竺里型丑 万方数据 共面转换模式液晶显示的制造与Nozzle 共面转换模式液晶显示的制造与Nozzle Mura改善工艺的研究 中文摘要 共面转换模式液晶显示的制造与 Nozzle Mura改善工艺的研究 中文摘要中又于两要 本文主要以液晶显示的原理及物理特性为基础,阐明了共面转换(IPS)模式 液晶显示原理及结构特点后,重点研究了薄膜晶体管液晶显示的制造工艺,并对工 艺缺陷Nozzle Mura进行了研究及改善。本研究对于了解目前IPS液晶显示器的显 示原理特性及生产工艺流程,改善工艺中存在的缺陷,提供了一定的理论和实践基 础。 本论文首先对液晶显示行业的发展现状及国内外发展趋势进行了基本的介绍: 其次,从IPS模式液晶显示的显示结构、显示模式、材料特性及功能优缺点方 面进行了物理结构和物理性质的基本阐述,重点对显示结构和液晶材料的分类及其 应用物理性质方面进行了讨论; 再次,着重讨论了IPS模式的LCD前段生产工艺及性能指标,对阵列制程中 成膜、光刻、刻蚀制程和成盒制程取向剂涂布、摩擦、成盒组立等重要制程进行了 全面的阐述,并对液晶显示器的分辨率、开口率、视角及对比度等特性进行了分析 及讨论; 最后,通过对LCD前段制程中产生的Nozzle Mura缺陷进行了重点研究分析, 借助实验及实践分析对取向剂涂布制程中Nozzle角度及管径进行优化,达到改善 NozzleMura的目的。 关键词:共面转换;液晶显示;液晶显示缺陷;Nozzle Mura;TFT-LCD生产工艺。 作 者:赵龙 指导教师:张冬利 万方数据 Abstraet Abstraet Study of IPS mode LCD manufacturing and Nozzle Mum process improvement Study of IPS Mode LCD Manufacturing and Nozzle Mura Process Improvement Abstract In this thesis,the research lS focused on the solve of Nozzle Mura phenomenon in thin-film transistor liquid—crystal display’S manufacture techniques.Structure and theory of In-Plane Switching Liquid Crystal Display(IPS LCD)based on liquid crystals’ theory and physical characteristics are also expatiated This thesis provides detailed theory and application foundation to acquaintance the IPS—LCD’S theory,physical characteristics,manufacture techniques,and production techniques to improve the defect of Liquid Crystal Displays. First,we introduced the present situation of the development of liquid crystal displays and the development trend in China and abroad。 Then,on the basis of liquid crystals’theory and physical characteristics,we expatiated the IPS—LCD’S structure,modes,and material characters. And,we foc

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