TFT阵列基板Cu导线的H202及N0n-H202蚀刻液特性与研究.pdfVIP

TFT阵列基板C 蚀刻液特性研究 张骢泷，寇浩毒，陈雅惠，陈虹瑞，王傻，李冠政 (深圳市华星光电技术有限公司研发中心深圳518132 kouhao@tcl．corn) 性进行了探讨及研究，采用离子色谱aC。IonQ两硼晒gl印姆)、艇基潞璐等定性、定量分析了如O蔗及N伽．H众萋麴蚀浓 中主要的酸种类及其成分，结合主要成分酸的作用艨理对所测试麴蚀液进行了解释、分折，芳对试验结果进行了撵讨；本文 根据实验结栗对两种刻蚀液湿蚀刻特性进行了探讨弗得出了初步的结论；根据本次试验结果，啦02基刻蚀液表现出较好的 湿蚀刻特性，更适用m显示器件厂商的!盼k。 Non-Hz％基蚀刻液；Cu／Metals 关健词：11叮；湿蚀刻：地02基刻蚀液t Wet characterizationof and etching H202Non—-H202 etchantforTFTCu／metals