镍修饰WO3膜光电化学氧化水的研究.pdfVIP

　第２８卷 第４期 分　　子　　催　　化 Ｖｏｌ．２８，Ｎｏ．４　 　２０１４年８月 ＪＯＵＲＮＡＬＯＦＭＯＬＥＣＵＬＡＲＣＡＴＡＬＹＳＩＳ（ＣＨＩＮＡ） Ａｕｇ．　２０１４　 文章编号：１００１３５５５（２０１４）０４０３５１０８ 镍修饰ＷＯ 膜光电化学氧化水的研究 ３ １，２ １ 李　振 ，吕功煊 （１．中国科学院兰州化学物理研究所 羰基合成与选择氧化国家重点实验室，甘肃 兰州７３００００； ２．中国科学院大学，北京 １０００４９） 摘要：在强碱性溶液中低电压低电流条件下在Ｗ基底上经阳极氧化得到致密ＷＯ层，而后在酸性条件下在ＷＯ ３ ３ 表面经光辅助电化学还原沉积镍，所获得的复合电极具有优异的光电化学氧化水的活性和稳定性．ＳＥＭ，ＥＤＸ， ＸＰＳ和ＴＥＭ等表征表明复合电极中具有体心立方结构的Ｗ基底经阳极氧化形成了具有单斜结构的ＷＯ 层，表 ３ 面修饰的镍物种以Ｎｉ（ＯＨ）形式存在．光电化学实验表明ＷＯ 层对可见光具有良好的光响应，表面修饰镍后， ２ ３ 光电氧化水的起始电位显著降低，电极的稳定性也得以提高． 关键词：光电分解水；ＷＯ；镍修饰；复合电极 ３ 中图分类号：Ｏ６４３．３２ 文献标志码：Ａ ［３１］ 　　近年来，光电催化分解水已经成为催化领域的 装可形成均匀纳米孔的ＷＯ 膜 ，在Ｆ离子溶液 ３ － ［１８］ ［３２］ 热点问题 ，氧化钨具有特殊的光电性能，已经 中恒流条件下可形成ＷＯ 纳米管 ．为进一步提 ３ － 在很多方面得到了应用，如电致变色器件［９１０］，气 高电极的稳定性，可在电极表面修饰具有催化功能 － － ［３３］ 体传感器［１１１３］，光降解催化剂［１４１５］等．ＷＯ 的带 的金属或过渡金属．最近Ｍｉｃｈａｅｌ等 通过电化学 ３ 隙宽度大约为２．７０ｅＶ，对可见光有很好的响应， 沉积在单晶Ｓｉ表面形成镍保护层，使得其在碱性 且在水溶液中具有良好的热化学稳定性，其价带电 条件下寿命大幅度延长，此时，镍物种还可以作为 位为３．５ｅＶ（ｖｓＮＨＥ），比理论水分解产氧电位 光分解水产氢的活性位点．这种方法不仅显著提高 １．２３ｅＶ（ｖｓＮＨＥ）高出２．２７ｅＶ，适合作为光电催 光电催化电极的稳定性，同时又为催化反应提供了 化分解水的阳极材料，因此作为光阳极材料，ＷＯ 反应活性位．