aSi TFT用氮化硅薄膜的泣制备及其性能分析.docx

优秀毕业论文 精品参考文献资料 A A B S T R A C T H Z S IN S i，H ZS IN Z a ri d H S IN 3 a b so r b in g sP e c ie s h a v e e o n tr ib u t e d to t h e 5 1一H a b so r p t io n P e a k . T h e re se a rc h in d ic a te s t ha t t he 5 1一H b o n d d e n sity e o u ld b e o b ta in e d b y e a lc u la tin g t he in te n sitie s o f G a u ss sta n d a rd n o r m a l c urv e s w h i c h 15 e sse n tia l f or f it tin g t h e F T IR sP e c tr u m P ro P e rl y . S P e c tr o se o P ie e lliP so m e tr y a n d sP e c tr o s e o P ic re f le c to m e t ry a re im P o r ta n t m e th o d s to re se a rc h t he P h y sic a l a n d o P tie a l P r o P e rt ie s o f silic o n n it ri d e t hi n f il m . T h e m a in P r o e e ssin g P a ra m e te rs a re P la sm a P o w e r 、 c h 田旧b e r P re ssu r e 、 e le c tro d e sP a e in g 、 su b st ra te te m P e ra tu re 、 g a se s f lo w a n d 50 o n . T h e m o tiv e o f 而 5 P a p e r 15 to in v e stig a te t he e f fe c t o f P r o c e ssin g P a ra m e te rs o n t he P r o P e rt ie s o f silic o n n it ri d e a n d t h e c o v e ra g e P e rf or m a n c e o f in su la to r la y e 兀 a n d t he e f fe e t o f t h e f ilm t hle k n e ss o f in ie rf ae e la y e r o n t he c o n d u c tio n c urr e n t P e rf or m a n c e o f t hi n f ilm t ra n sist or . K e y w o r d s : silie o n n it ri d e : P E C V D : in su l a to r la y e r: in te rf ae e la y e r; P a ssiv a tio n la y e r I V 目录 目录 目 录 第 一 章 引 言 ..................……，......................................................................................……1 1. 1 课 题 研 究 背 景 及 意 义 .......................……，....................................................……1 1.2 氮 化 硅 薄 膜 的 性 质 及 主 要 应 用 ..................................................................……2 1，2 . 1 物 理 性 质 及 应 用 ............................……，.............................................……3 1.2 .2 化 学 性 质 及 应 用 ........……，................................................................……6 1.3