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第九章
化学气相沉积 (CVD);化学气相沉积概述;CVD概述;CVD概述;CVD概述;CVD概述;CVD方法;CVD装置简图;CVD方法;11;CVD方法;13;CVD方法;15;CVD方法;CVD方法;18;CVD方法;CVD方法; 优点:
成分组分控制比较好,可以大面积沉积、均匀性好、致密;
沉积温度较低,减少了自污染,提高了薄膜的纯度。
缺点:
有机金属化合物蒸气有剧毒和易燃,给有机金属化合物的制备,贮存,运输和使用带来了困难;
工作气体成本比较高;
反映温度低,有些金属有机化合物在气相中就发生反应,生成固态微粒再沉积到衬底表面,形成薄膜中的杂质颗粒,破环了膜的完整性。;22;CVD方法;24;CVD方法;26;27;28;29;习题
等离子体CVD与热CVD相比,在原理上有哪些差别?有哪些优越性?
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