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光折变效应及其在干涉仪中的应用 光电子技术 目录 2 光电子技术 光折变效应概述 光折变效应的物理机制 光折变效应的主要特征 光折变效应存在的条件 光折变效应与强光非线性的关系 光折变材料特征参量 基于光折变效应的非线性干涉仪 光折变效应概述 非线性光学是研究光与物质相互作用的一门学科。 3 光电子技术 光折变效应概述 4 1966年： 贝尔实验室的Ashkin等人在用LiNbO3和LiTaO3晶体进行倍频实验时意外发现了一种特殊的光损伤现象，即由于光辐照区折射率变化破坏了产生倍频的相位匹配条件，从而降低了倍频转换效率。 1968年： 由于这种光损伤在光辐照停止后仍能保持相当长的时间，Chen等人首先认识到，这种‘光损伤’可以用来进行光信息的实时存储，深入研究了这种效应的物理机制。 光电子技术 由于这种光损伤可以通过均匀辐照和加热的方法被完全擦洗掉，因而它是一种可逆的损伤，为了与永久性的光损伤相区别，人们改称它为： 光折变效应 （photorefractive effect）。 光折变效应概述 5 光电子技术 与强光非线性光学相比较，光折变效应最明显的特征是它起因于入射光强的空间调制，而不是绝对的入射光强 弱光非线性光学无疑为非线性光学开创了更加广泛的研究领域，它不仅可以在方便的时间尺度下观察和研究非线性现象，而且使得实时制作各种非线性光学元器件成为可能。 这就是说，对于弱光（如毫