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- 2019-10-23 发布于广东
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第17卷 第2期 物 理 学 进 展 v。1.17,N。.2
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王荫君
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(中国科学院物理研究所和凝襄态物理中心 北京 100080) 弋P 亏.3
提 要
本文着重从避存储出发讨论了磁光存储,硬磁盘存储的现状和未来发展。沿用传统的驱
动器,它们的面存储密度的极限大致在 10Gbits/in的量级t这主要是由存储材料性能和信息
存取模式 (磁头或光头)的限制。为要进一步提高存储密度,需采取类似近场光学、原子力、磁
力和扫描隧道显微镜这样的现代手殷来进行信息的存储 ,但要实现,需要一段较长的时间。在
磁存储获得发展的同时,非磁的光存储介质的应用得到了开发,主要是CD—ROM (只读式)·
CDR(写一次)和PD(相变型)。正是磁和光存储介质在信息存储中的应用,使当今信息技术中
一 重要领域一 信息存储显得生气勃勃。
自从 1973年美国IBM公司几位科学家发现了非晶态钆钴磁性薄膜具有垂直磁化和
存储特性以来,以钆铽铁和铽铁钴为代表的稀土一过渡族合金薄膜的磁和磁光性能的研
究获得了广泛的开展。研究工作的主要内容是围绕这一类材料作为磁光盘存储应用的特
性进行 在七十年代,磁记录的存储密度还比较低,每平方英寸只有几兆位。那时的磁记
录介质还是涂布的磁性氧化物颗粒,磁矫顽力低,加上环形磁头的几何尺寸,所以磁盘上
的道密度比较低。与此相比,磁光盘的读写头是使用激光束,它可以聚焦到 1微米甚至更
细,磁光盘的存储密度比磁盘的存储密度要大大提高。所以,当时把磁光盘存储技术的出
现喻为信息存储技术的一次革命。经过十多年科学家和工程技术人员的艰辛努力,在八十
年代中日本的公司首先宣布了磁光盘和驱动器研制成功。在九0年磁光盘驱动器和磁光
盘推向了市场 初始时,一张 5.25英寸的磁光盘的存储容量约为650兆位。
作为磁光盘信息存储应用的原理大致如下:当垂直磁化的介质(通常在数十纳米厚)
受到一聚焦的激光束照射时,被照射小区域温度升至磁性消失温度 (居里温度)附近,在去
掉激光束后,小区域冷却过程中加一外场约 300奥斯特的定向磁场 。冷却过程中,小区域
回复磁矩的取向就随外场的取向而取向 这—过程就相应于信息写入或写入后的擦除过
程(擦除时,外加磁场方向和磁矩方向相反)。要注意的是 ,这一外向场较介质的磁矫顽力
小得很多,因而外磁场不会影响被激光幅照以外区域内原来磁矩的取向。磁矩沿这一垂直
于介质表面方向的两个取向即为二进位制的 0和 1方向 当信息读取时,也需要一外加的
聚焦激光束,但功率较低 利用小区域上激光反射束相对于入射束的偏振旋转方向正、负
和介质中磁矩取向有关,并利用一套装置就能辨别出介质小区域上的磁矩取向,从而知道
原存入的信息是 1还是 0 顺
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