天津经济技术开发区微电子工业总公司厂区规划设计.docVIP

开发区建　设 天津经济技术开发区微电子工业　　　　　 总公司厂区规划设计　　　　　 　　姜耀明　李　桓　隋　方　段　　　　(天津大学建筑设计研究院　300072 收稿日期:1997-06-15 1　环境概述天津经济技术开发区微电子工业总公司拟建的厂区位于微电子工业区主要道路北大街的南侧;东、西两边以三经路、二经路为界(图1。整个厂区的用地面积为6×105m 2,建筑面积为59300m 2。场地原为农田,地势平坦。已形成的北大街,三经路上有水、电、热力、通讯等市政管线 。 图1　总平面图 1—厂房;2—餐饮中心;3—自行车停车 场;4—停车场;5—娱乐场地;6—传达室;7—综合楼;8—草坪;9—过街楼; 10—人员入口;11—货运入口 2　规划设计构思 (1追求室内空间的灵活性,以适应微电子工业各个 部门的生产需要。 (2为塑造企业形象,建筑单体追求个性和富有魅力 的造型。 (3以“人”为主,在整个工厂的室内外环境设计中,充 分考虑人的因素。以舒适的环境来引发人的潜能。 (4注重厂区绿化环境的设计,创造一个优美、整洁 的生产环境。 3　总体布局 标准的通用性厂房适合微电子工业、电子原件等行业的生产需要。天津经济技术开发区微电子工业总公司厂区由一幢公共的餐饮楼及一幢由排水处理站、空压机房、变电站、水泵房、汽车库组成的综合建筑。 四幢标准厂房紧靠场地的四角布置;造型别致的餐饮楼布置在