氧气介质清洗工艺.pdfVIP

CGA G 4.1-2004 氧气介质用的清洁设备 第 5 版本 目录 1 范围 2 装置 3 计划要求 3.1 监督 3.2 选用程序及清洁程序 4 清洁 5 蒸气或热水清洁 5.1 材料 5.2 蒸气清洁 5.3 热水清洁 5.4 清除清洗剂 6 腐蚀性清洁 6.1 材料 6.2 腐蚀性清洁程序 6.3 水洗 6.4 干燥 7 酸洗 7.1 清洗剂的选用 7.2 设备 7.3 清洗程序 7.4 残渣 7.5 干燥 8 溶剂清洗（包括超声波清洗） 8.1 溶剂清洗 8.2 超声波清洗 8.3 材料 8.4 清洗设备 8.5 溶剂清洁度的控制 8.6 溶剂清除 9 去蒸汽 9.1 设备 9.2 去蒸汽材料 9.3 去蒸汽程序 10 机械清洗 10.1 抛沙 10.2 钢丝刷或打磨 10.3 滚光 10.4 真空及刷水 10.5 吹风及清除 11 检测 11.1 质量控制程序及标准的批准 11.2 检测程序 13 人员安全 13.1 说明及监督 13.2 危险化学品 13.3 保护设备 13.4 适当通风 13.5 特殊状态 14 参考 15 附加参考 1 范围 此规范所提的清洗方法用于生产、储存、输送的清洗设备及氧气的气态和液态的使用。此规 范不替代或超越国家机构规定的常规清洗程序或清洗要求。这些设备比如固定的储存罐、油 轮、油车、压力容器如热交换器、整流柱和相连的管子、阀门及仪表。这些方法可用在清洗 其它氧气介质的设备如气缸、气缸阀门、调节器、焊接炬、管道、压缩器及泵，这些常规要 求未列明清洗方法。 氧气介质清洗的附加信息，见节 15 的附加参考清单 注： CGA C 10 ， 压缩气缸气体介质变化的推荐程序，包括气缸转化为氧气介质（1）。转 化要求区别于 CGA G 4. 1 的推荐 ， CGA C – 10 应优先推荐。 注： CGA 规定即使设备和系统是处理氧气介质时，要设计成处理任何气体超过氧气体积 的23.5% 。（CGA PS 13， CGA 状况表定义极限氧气混合物设备的特别清洗 （2 ）。这样氧 气设备的清洗和准备应采用超过 23.5%氧气。压力 2400psig(16 500 kPa)气缸内的典型气 体，应考虑特别清洗时减少累积。 2 装置 氧气设备和系统包括这里的所有器件应在充入氧气前，充分清洗清除有害污染物。 有害污 染物包括有机物和无机物如油品、油脂、纸、纤维、碎屑、木屑、煤尘、溶剂、焊渣、生锈、 沙、灰尘，这些如果不清除的话可能会引起氧气大气下的着火反应或导致不可接受的纯度。 此规范提供了清洗氧气介质设备的方法。 正确使用时，这些清洗方法和随后的检测结论为 了氧气介质设备安全操作及必须的产品纯度见 CGA G 4 .3 . 氧气用品规范（3 ）。如果器件 或系统氧气介质下充分清洁时， 建议的污染级别和方法要结合程序一起提供，对设备使用 前保持干净。 清洗氧气介质的设备或系统涉及到污染物的清除，包括生产、加热和装配中的表面遗留物， 清洗剂的清除并防止最终装配、安装、使用前再次污染。 这些清洗剂和污染物包括溶剂、 酸、碱、螺纹润滑油、锉末、有机材料（如油品、油脂、油漆）及其它外来物。 有害污染物的清除通过清洗所有部件，维持构造时的状态，通过构造后完全清洗系统或两种 相结合。 水须是饮用水。 一些客户的应用可能需要较高质量的水以达到或维持所需的清洁度。 3 计划要求 3.1 监督 熟悉氧气介质清洗技术的人员应负责监控清洗操作并确认元件或系统是否清洁，这样它可以 在氧气环境下安全运行。涉及多支路的管道系统的地方， 良好制定清洗程序极为重要，适 当结合构造顺序并精确执行，因为可能不操作或不可能彻底检查构造和最终清洗后的系统清 洁度。 3.2 选用程序及清洁程序 首先评估型号、可能的位置、污染程度来决定合适的清洁剂和最适当的清洗、检测、和测试 方法。另外，要研究通道的布局，这样可调整清洗、冲刷、去渣或排污操作来保证堵塞通道 和可能的疏水口的充分清洁。 另外考虑清洗剂是否与设备的材料相配。清洗剂与污染物和传送件相配也很重要。它与储存 罐、套管、管子、泵、滤网等接触。储存和输送设备不仅与清洗剂相配，而且充分清洗，这 样对工艺没有额外的污染。介于材料与清洗剂的兼容性，要与设备厂家和产