硅半导体表面杂质清洗的化学知识简介.ppt

5.2 氧化剂 常用的氧化剂有硫酸、硝酸、重铬酸钾（ K 2 Cr 2 O 7 ）、铬酐（ CrO 2 ）、 双氧水（ H 2 O 2 ）等。 、 (1) 重铬酸钾 重铬酸钾洗液是饱和的重铬酸钾溶液与过量的浓硫酸混合。有橙红色的 三氧化铬（ CrO 3 ）晶体析出。 三氧化铬又称铬酐，是最强的氧化剂之一， 剧毒。与某些有机物，如酒精接触能立即着火。 含有三氧化铬的洗液具有很强的氧化性和腐蚀性， 能氧化和溶解多种金属、氧化物、无机化合物， 而且热的洗液还能氧化有机油类杂质 ，生成可溶性的醇，酸，以予清除。 例如，常用重铬酸钾洗液清洗玻璃、石英器皿和金属用具。清洗时，器 皿中灌满洗液，或将器皿浸泡在洗液内，时间一般不少于 8 小时。最后 用大量的纯水将钾离子清除干净。 在反应中，重铬酸根离子得到电子而还原成 +3 价的铬离子，为绿色， 所以当重铬酸钾洗液由橙红色变为绿色，表明已失去氧化能力， 重铬酸钾洗液的配制： 将 50 ～ 60 克重铬酸钾先溶于 100 毫升热水中，制成饱和溶液，然后将 1000 毫升浓硫酸慢慢注入，并不断搅拌。混合时会放出大量的热，切不 可将水注入浓硫酸。 (2) 过氧化氢 H 2 O 2 过氧化氢俗名叫双氧水，分子结构式为 H-O-O-H 。 纯的过氧化氢是淡蓝色粘稠液体，液体密度在 25 ℃时为 1.4425 克／厘米， 沸点为 151.4 ℃，凝固点为 -0.89 ℃ ，固体的密度（ -4 ℃）为 1.643 克／厘 米。纯的固体过氧化氢被用作火箭燃料的氧化剂。 它是一种很好的洛剂，能与水按任意比例混合。 过氧键 -O-O- 很不稳定，过氧化氢在普通条件下将慢慢地分解为水和氧气。 分解速度与外界温度、光照、溶液的 pH 值、有无重金属离子存在等有关。 过氧化氢在酸性、中性介质中比较稳定，在碱性介质中不稳定。 90 ％的过 氧化氢在 pH=4 左右为最稳定。 一般把它存放在不透明的塑料瓶中，并放置在阴凉处。 过氧化氢溶液最好使用时临时配制。为了阻止它分解常加有微量的稳定剂 如锡酸钠 Na 2 SnO 3 过氧化氢有微弱的酸性，在水溶液中分两步电离： 总， 在半导体器件生产中，主要利用过氧化氢的强氧化性，它在酸性和 碱性溶液中具有氧化性，在酸性溶液中氧化性更强， 它与碘离子，亚铁离子的反应式， 5.3 络合剂 在清除硅片表面的杂质时，经常采用生成络合物的方法，特别对于用 “三强酸”也难以清除的重金属杂质，如金、银、铜、铂等。 根据 配位理论 ，经常沾污的 Fe 、 Ni 、 Cu 、 Ag 、 Au 等过渡金属，易形成稳 定的络离子的 中心离子 ， 可用氧化还原反应与络合反应来清除它们。 常用的络合剂，如盐酸、氢氟酸、氟化氨、氨水等，就是利用这些化合 物中的卤素离子 F - 、 Cl - 以及中性分子 NH 3 作为 配位体 ，与中心离子形成可 溶性的络合物，然后再用高纯水冲洗清除， (1) 酸性和碱性过氧化氢洗液 以过氧化氢为基础的洗液已广泛用于硅片清洗，有碱性和酸性两种。 碱性过氧化氢清洗液 碱性过氧化氢清洗液（通常简称为 1 号洗液）是由纯水、过氧化氢 （ 30% ）、浓氮水（ 27% ）按一定比例混合而成的。 氨水 氨水是氨的水溶液， 20 ℃时一体积的水能吸收 700 体积的氨。 是无色透明有刺激性臭味的液体。市售浓氨水的含氨量为 25~28% ，比重 约为 0.9 。 氨水是一种弱碱，其中存在着下列平衡： 氨水能提供氨分子和氢氧根离子。 碱性过氧化氢洗液的作用： (1) 利用氨水的碱性，除去能溶于碱的杂质。 (2) 利用 H 2 O 2 在氨水碱性介质中的强氧化性，并利用氨络合剂的作用，与 许多金属离子如 Cu 2+ 、 Ag + 、 Zn 2+ 、 Co 2+ 、 Ni 2+ 、 Cd 2+ 、 Hg 2+ 等形成稳定的可 溶于水的络合物。如， 用 1 号碱性过氧化氢洗液除去硅片上光刻胶等有机物，效果良好，且不会 析出游离碳而再次沾污硅片。还能除去抛光后残存的蜡、松香等有机杂 质。 酸性过氧化氢洗液 酸性过氧化氢洗液，通称 2 号洗液，它是由纯水、过氧化氢（ 30% ）、浓 盐酸（ 37% ）组成的， 酸性过氧化氢洗液的作用： (1) 利用盐酸与活泼金属、金属氧化物、氢氧化物、碳酸盐、硫化物等作 用，变为金属氯化