北京大学的环境化学臭氧层化学.pptVIP

平流层化学一臭氧层化学 1平流层臭氧基本光化学 2活性物种源、汇和储库 ·3平流层臭氧的各种影响因素 ·4臭氧洞 发现,化学机制,整体杋制,发展趋势 EUⅤ 被O2、O吸收 (远紫外线) UVC ~290nm 被O2吸收 (短波灭菌紫外线) UVB 290-320nm90%被O3吸收 (中波红斑效应紫 外线) traviolet rays ■10~55km平流层,逆温特点,垂直 对流弱 asphere protected ■15~40km臭氧层,占有90%臭氧, 10ppm;O3可吸收≤300nm辐射,主 要是紫外 UVC Solar radiation(E= h-f) shorterλ UVB UVC UVB UVAUVVIS iR Earth Ozone cycle 1 Chapman机制 生成 O2+hv(2 242nm (1) 2( 30+hv 20 去除 hv(11140nm) O,+o O+O+M O3 + M O3+hv( n1140nm)- (4) 垂直向下输送到对流层 (a)过程并不清除O3,O3=O+O3,只是吸收了UV转化为热能,是 臭氧层基本功能和平流层逆温根源。 photon of UVc k Step 1 photon of UVB step Step 3 Chapman cycle Ozone generation Step 4 and destruction →202 (slow) 2催化机制 )3+X O2+ XO XO+O O2+ X 2O2 X=含氮氧化物Nox(No、NO2) 含氢自由基HO3(H、HO、HO2) 含卤自由基C或CO(C、CO)、 Br或BrO.(Br、BrO) 消耗比 Chapman(O3+O2)20-30% 50~70% HO 10~20% CL(CIO) 1% 活性物种 源分子地表天然过程或人为活动排放,在对流 层寿命较长而进入平流层发生光解的化 合物分子,包括N2O、CH4、CFC等。 活性基链反应中的活性基团,可在反应中再生 储库分子活性基与其它分子形成的相对稳定的分 子,可降低活性基作用,包括HONO2 CIONO2、HCl、H2O2、N2O等;可输入 对流层发生化学反应再湿去除。 1 NO 源 主: N2O+hv(≤3l5nm) N2+ O(lD) N2O+O(D)—N 次: N2+宇宙射线 No+o NO+O2 2)催化机制 O3+no- NO2+O O2+NO决速步 ·中平流层 O3+O NO2+o NO3 +O NO3+hv—-NO+O,决速步 低平流层 NO+O3 NO2+o 总:2O3+hv NO,+OH+M HONO,+ M 竞争HONO2+hv(x≤345nm HONO,+OH H,O+ NO NO3 +hv NO+ O2 NO3+ hv NO+o