前后清洗工艺培训教材制造太阳能电池基本工艺流程.pptVIP

天能 RENA前后清洗工艺培训 Trnasolar nfidential  大阳能电池的种类及效率 世界主要太阳电池新记录 单晶硅电池24.7±0.5澳大利亚新南威尔士大学4cm2面积 多晶碰电池 国弗朗霍夫研究所 1.002cm2面 InGa P/GaAs 30.8±1 日本能 4cm2画 非晶硅电池 12.8±0.7 美国USSC公司 0.27cm2面积 CIGS电池19506美国可再生能源实验室0.41cm面 dTe电沘 羹国可再生能源实室 多晶碰薄膜电池16.6±0.4 德国斯图加特大学 4.017cm2面积 10.1±0 徽米膜(玻璃衬底) 1,0± GaIn P/GaAs/Ge 37.3+1.9 Spectro la 175倍聚光 国 SunPower公司 96倍聚光 Trinasolo Confidential  制造太阳能电池的基本工艺流程 前清洗(制绒) 扩散 后清洗(刻边/去PSG) PECVD SINX 丝网印刷/烧结/测试 Trinasolo  自a RENA清洗设备 注:前、后清洗设备外观相同,内部构造和作用原理稍有不同 Trinasolo  、 RENA Intex前清洗工艺培训 Trnasolar  制绒的目与原理 根据工艺方法不同,制线可分为碱制绒(仅适用于单晶硅制绒) 和酸制绒(可用于单晶和多晶硅表面的制绒)。RENA设备为酸制 绒设备,其目的主要有: 1.去除硅片表面的机械损伤层 2清除表面油污和金属杂质 3形成起伏不平的绒面,减少光的反射,增加硅片对太阳光的 吸收,增加PN结的面积,提高短路电流(Isc),最终提高电 池的光电转换效率。 Trnasolar  酸制绒后表面呈蜂窝状,如下图所示 陷光原理图 当入射光入射到一定角度的斜面 光会反射到另一角度的斜面形成二次吸 单晶硅片酸制绒绒面形状 收或者多次吸收,从而增加吸收率 Trnasolar  酸制绒工艺涉及的反应方程式: HNO3+Si=SiO,+NO 1+H,O Sio,+ 4HF=SiF +2Ho SiF4+2HF=H2[SiF61 Si+2KOH+H,o-K2sio3+2H, NO2+H,O=HNO3+ HNO2 Si+hnO,= SiO,+no +h,O HNO3+NO+h,O=hNO2 Presolar  前清洗工艺步骤:制绒→碱洗→酸洗→吹干 RENA Intex前清洗设备的主体分为以下八个槽,此外还有滚轮、排 风系统、自动及手动补液系统、循环系统和温度控制系统等 Alkaline Etch bath Dryer Rinse Rinse Acidic Rinse Rinses Drver2 Rinse Presolar  Etch bath:刻蚀槽,用于制绒。所用溶液为HF+HNO3,主要工艺参数 Firstfill volume: 48OL Bath processtemperature:7±2℃ concentrations of chemical: HF(154g/L)HNOa(358g/L) Quality: 1000K: Setpoint recirculation flow: 140oL/min 制绒过程中根据腐蚀深度,可对温度作适当修正。越高的温度对应越快的反应 速度,故如果腐蚀不够则可适当提高反应温度,反之亦然。一般每01℃对应 约0μm的腐蚀厚度。当药液寿命( Quality)到后,需更换整槽药液。 刻蚀槽的作用 去除硅片表面的机械损伤层 2.形成无规则绒面。 Presolar