PVD镀膜基本工艺设计.docVIP

PVD镀膜工艺 PVD镀膜工艺 1.装饰件材料（底材） (1)金属。不锈钢、钢基合金、锌基合金等。 (2)玻璃、陶瓷。 (3)塑料。abs、pvc、pc、sheet、尼龙、水晶等。 (4)柔性材料。涤纶膜、pc、纸张、布、泡沫塑料、钢带等。 2.装饰膜种类 (1)金属基材装饰膜层：tin、zrn、tic、crnx、ticn、crcn、ti02、al等。 (2)玻璃、陶瓷装饰膜层：tio2、cr2o3、mgf2、zns等。 (3)塑料基材装饰膜层：ai、cu、ni、si02、ti02、ito、mgf2。 (4)柔性材料装饰膜层：al、lto、ti02、zns等。 3.部分金属基材装饰膜颜色 金属基材装饰膜种类和色调很多。表1为部分金属基材装饰膜种类及颜色。 表1 部分金属基材装饰膜种类及颜色膜层种类 色 调 tinx 浅黄、金黄、棕黄、黑色 tic 浅灰色、深灰色 ticxny 赤金黄色、玫瑰金色、棕色、紫色 tin+ au 金色 zrn 金黄色 zrcxny 金色、银色 tio2 紫青蓝、绿、黄、橙红色 crnx 银白色 tixal-nx 金黄色、棕色、黑色 tixzral-nx 金黄色 3.装饰膜镀制工艺 一．金属件装饰膜镀制工艺 比较成熟镀膜技术有电弧离子镀、磁控溅射离子镀和复合离子镀。下面分别从各类镀膜技术中选择一个含有代表性经典镀制工艺进行介绍。 1)用电弧离子镀方法为黄铜电镀亮铬或镍手表壳镀制ticn膜。 采取小弧源镀膜机和脉冲偏压电源； (1)工件清洗、上架、入炉 工件在入炉之前要经过超声波清洗、酸洗和漂洗三道工序。 首先是在超声波清洗槽中放入按使用要求配制金属清洗剂，利用超声波进行脱脂、清洗。清洗以后，进行酸洗，它能够中和超声波清洗时残余碱液，还能起到活化处理作用。然后进行漂洗以根本除去酸液，漂洗时必需采取去离子纯净水或蒸馏水。经过三洗后，即时进行烘干，温度通常控制在100℃左右，时间为1h左右。也能够风吹干后立即人炉。 (2)镀膜前准备工作 ①清洁真空镀膜室。用吸尘器将真空镀膜室清洁一遍。当经过数次镀膜时，真空镀膜室内衬板还需作定时清洗，通常是半个月清洗一次。 ②检验电弧蒸起源。工作前，要确保电弧蒸起源起源安装正确，绝缘良好，引弧针控制灵活,程适宜，恰好能触及阴极表面。 ③检验工件架绝缘情况。工件架和地之间绝缘必需须良好，负偏压电源和工件架接触点点必需接触良好。 以上几项工作确保没有问题后，才能够关闭真空镀膜室门，进行抽气和镀膜。 (3)抽真空 真空抽至6.6 x 10-3pa。开始是粗抽，从大气抽至5pa左右，用油扩散泵进行细抽。在粗抽时，能够烘烤加热至150℃。伴随镀膜室温度升高，器壁放气会使真空度降低，然后又回升，等到温度回升到6.6 x 10-3pa时方可进行镀膜工作。 (4)轰击清洗 ①氩离子轰击清洗 真空度：通人高纯度氩气(99.999%)真空度保持在2～3pa。轰击电压：800～1000v。轰击时间：10min. 此刻在真空镀膜室内发生辉光放电，放电产生氩离子以较高能量撞击工件表面，将工件表面吸附气体、杂质和工件表面层原子溅射下来，露出材料新鲜表面。 ②钛轰击 真空度：通人高纯度氩气使真空度保持在2 x 10-2pa。脉冲偏压：400～500v，占空比20%。电弧电流：60～80a，轮换引燃电弧蒸起源，每个电弧蒸起源引燃1～2min。 (5)镀膜 ①镀钛 真空度：通人高纯度氩气，真空度保持在2 x 10-2pa。脉冲偏压：200～300v，占空比50 %。电弧电流：60～80a，引燃全部弧源，时间2～3min. ②镀ticn 真空度：通人高纯度氮气使真空度保持在(3～8) x 10-1pa，然后再逐步加大c2h2气体，伴随c2h2气体量增大，色泽由金黄一赤金黄一玫瑰金一黑色改变。控制n2和c2h2两种气体百分比能够达成预定色度。 电弧电流：50～70a。脉冲偏压：100～150v，占空比60 %～80 %。沉积温度：200℃左右。镀膜时间：10～20min，膜层厚度0.2～0.5μm。 (6)冷却 镀膜工序结束后，首先关闭电弧电源和偏压电源，然后关闭气源、停转架。工件在真空镀膜室内冷却至80～100℃时，向镀膜室内充大气，取出工件。 2)用磁控溅射离子镀技术为黄铜电镀亮铬卫生洁具镀制zrn膜。采取基材为锆非平衡磁控溅射靶和中频电源，和脉冲偏压电源。 (1)抽真空 5 x 10-3～6.6 x 10-13pa本底真空。加热温度应在真空室器壁放气后又回升到100～150℃。 2)轰击清洗 真空度：通人氩气真空度保持在2～3pa。轰击电压：800～1000v，脉冲占空比20%。轰击时间：10min。 (3)镀膜 ①沉积锆底层 真空度：通入氩气，真空度保持在s x lo-1pa。靶电压：400—550v，