PSS的生产工艺及原理 .pptxVIP

; PSS介绍 PSS工艺——清洗、光刻、刻蚀 质量标准;蓝宝石应用;Why Patterned Sapphire Substrate;PSS作用： 增加出光效率 减少外延位错密度;PSS examples;图形转移技术-干法刻蚀 ;图形转移技术-湿法腐蚀;纳米压印的工艺;阳极氧化铝（AAO）技术;优势： 图形尺寸小，可以克服曝光缺陷， 过程简单，没有显影，烘烤等步骤。 缺点： 掩模板昂贵。气泡等匀胶缺陷还存 在。纳米PSS需要LED工艺进一步验证。;中镓PSS模型;表：PSS 模型标准;二、PSS制程;二、PSS制程;;1、清洗;1、清洗;1、清洗; 清洗质量直接影响下面的各道工艺，如圆晶表面有残胶等污染在匀胶会产生颗粒，在ICP容易产生盲区死区，蚀刻后再清洗不容易再洗干净；圆晶表面黏附性不好在显影会产生脱胶。故必须严格控制圆晶的清洗，从源头把好关。;2、光刻;2、光刻基本工艺流程;2.1 光刻胶;抗蚀剂有两个基本功能：精确图形形成和刻蚀时保护衬底;2.2 表面处理;2.3 涂胶; ;2.3 涂胶质量标准;2.4 前烘;2.4 前烘;2.5 对准曝光;2.5 曝光工艺控制;2.5 曝光工艺——能量;2.5曝光工艺——DOF;2.5 曝光工艺——ALIGNMENT;三角;2.6 后烘;2.7 显影;2.8 坚膜;;2.9 光刻质量检查;3、刻蚀;3